[发明专利]产生不相干辐射的反射环路系统有效
申请号: | 200710109897.1 | 申请日: | 2007-06-05 |
公开(公告)号: | CN101105638A | 公开(公告)日: | 2008-01-16 |
发明(设计)人: | J·J·M·巴塞尔曼斯;K·尤雅马 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司;大日本网目版制造株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥夌;王小衡 |
地址: | 荷兰费*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 不相干 辐射 反射 环路 系统 | ||
1.一种系统,包括:
辐射源,它产生相干或部分相干射束;以及
反射环路系统,它包括曲面反射装置,并配置成通过环路反射所述部分相干射束,以形成更加不相干的射束。
2.如权利要求1所述的系统,其中所述反射环路系统包括第二反射装置。
3.如权利要求2所述的系统,其中第一和第二反射装置都是曲面的。
4.如权利要求2所述的系统,其中第一和第二反射装置中的至少一个包括第一和第二部分,且第一和第二部分中的至少一个相对于第一和第二反射装置的相应反射面不对准。
5.如权利要求1所述的系统,其中所述反射环路系统包括第二到第四反射装置。
6.如权利要求5所述的系统,其中四个反射装置包括三个平面反射装置和所述曲面反射装置。
7.如权利要求1所述的系统,其中所述反射环路系统包括反射装置,所述反射装置具有相对彼此倾斜的相应反射面,以便形成不重叠环路。
8.如权利要求1所述的系统,其中:
使用第一光学装置使所述部分相干射束入耦合到所述反射环路系统中;以及
使用第二光学装置使所述不相干射束从所述反射环路系统中出耦合。
9.如权利要求1所述的系统,其中所述反射环路系统包括场平面和光瞳平面。
10.如权利要求1所述的系统,其中所述反射环路系统包括两个场平面和两个光瞳平面。
11.如权利要求1所述的系统,其中所述至少部分相干射束或所述不相干射束穿过所述反射环路系统中的针孔。
12.如权利要求1所述的系统,其中所述反射环路系统还包括:
第二反射装置,与所述反射环路系统的场相关联;以及
第三反射装置,与所述反射环路系统的光瞳相关联,
其中基于第二和第三反射装置的相应反射面之间的不对准,改变所述场或所述光瞳的位置。
13.如权利要求1所述的系统,其中所述反射环路系统配置成,在每个环路后,所述不相干射束的第一部分从所述反射环路系统透射,且所述不相干射束的其余部分沿所述环路中的另一环路被引导。
14.如权利要求1所述的系统,其中:
所述不相干射束通过所述反射环路系统的光瞳或场中之一被透射;以及
所述至少部分相干射束在所述反射环路系统的光瞳或场中的另一个被接收。
15.如权利要求1所述的系统,还包括:
图案形成装置,它使所述不相干射束形成图案;以及
投射系统,它将所述不相干射束投射到衬底的目标部分上。
16.如权利要求15所述的系统,还包括:
照射系统,它处理所述不相干射束,并将所述不相干射束引导到所述图案形成装置上。
17.如权利要求16所述的系统,其中所述照射系统包括所述辐射源和所述反射环路系统。
18.如权利要求1所述的系统,其中所述环路的路径长度大于所述至少部分相干射束的时间相干长度。
19.如权利要求1所述的系统,还包括:
一个或多个附加反射环路系统,它们配置成从上游反射环路系统接收相应的不相干射束,并通过环路反射所述不相干射束,以形成另一不相干射束。
20.一种光刻系统,包括:
照射系统,它产生辐射的照射射束,包括:
辐射源,以及
反射环路系统,它包括曲面反射装置;
图案形成装置,它使所述辐射的照射射束形成图案;以及
投射系统,它将形成图案的射束投射到衬底的目标部分上。
21.如权利要求20所述的光刻系统,其中:
所述反射环路系统配置成接收所述部分相干射束,并在环路中反射所述部分相干射束,以形成不相干射束。
22.如权利要求21所述的光刻系统,其中所述反射环路系统配置成,在每个环路后,所述不相干射束的第一部分从所述反射环路系统被透射,且所述不相干射束的其余部分沿所述环路中的另一环路被引导。
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