[发明专利]光刻设备与器件制造方法无效

专利信息
申请号: 200710109896.7 申请日: 2007-06-05
公开(公告)号: CN101086628A 公开(公告)日: 2007-12-12
发明(设计)人: S·B·C·M·马滕斯;R·H·G·克拉默 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王波波
地址: 荷兰费*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光刻 设备 器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种组装物体的方法,包括如下步骤:

提供具有第一表面的第一物体部分;

提供具有第二表面的第二物体部分;

将所述第一物体部分和所述第二物体部分定位,以使所述第一表面和所述第二表面彼此面对,其中,在所述第一表面和所述第二表面之间限定间隙;

将粘接剂施加于所述间隙的至少一部分上,

使所述第一物体部分和所述第二物体部分在一段时间内保持一定距离,其中,由于毛细管作用和/或重力而使所述间隙基本填满所述粘接剂;以及

使所述第一物体部分和所述第二物体部分彼此相对移动,以减少所述第一表面和所述第二表面之间的距离。

2.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一物体部分和/或所述第二物体部分由具有低热膨胀系数的材料制成。

3.如权利要求1所述的方法,其中,所述间隙具有至少10μm的宽度。

4.如权利要求3所述的方法,其中所述间隙具有15-25μm的宽度。

5.如权利要求1所述的方法,其中,使所述第一物体部分和所述第二物体部分彼此相对移动后得到的距离是1-8μm。

6.如权利要求5所述的方法,其中,所述得到的距离是2-6μm。

7.如权利要求1所述的方法,其中,用隔片来定位所述第一表面和第二表面并使之保持一定距离。

8.如权利要求1所述的方法,其中,在使所述第一物体部分和所述第二物体部分彼此相对移动前所述隔片被取走,并在取走所述隔片后用粘接剂填满其余的空间。

9.如权利要求1所述的方法,其中,在所述第一表面和所述第二表面之间施加连续的粘接剂膜。

10.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一物体部分是可移动物体,所述第二物体部分是配置成测量所述可移动物体的位置量的测量系统的一部分。

11.一种实现测量可移动物体的位置量的测量系统的方法,所述方法包括如下步骤:

将所述测量系统的第一部件安装在基本静止的框架上,以及

用权利要求1所述的方法将所述测量系统的第二部件连接到所述可移动物体上,所述第一物体部分是所述可移动物体,所述第二物体部分是所述第二部件。

12.如权利要求11所述的方法,其中,所述可移动物体是掩模原版吸盘体和晶片吸盘体这二者之一。

13.如权利要求11所述的方法,其中,所述测量系统是编码器测量系统,所述第一部件是编码器头,所述第二部件是编码器网格标尺。

14.一种制造掩模原版台或晶片台的方法,所述掩模原版台或晶片台包含用权利要求1所述的方法相互连接的第一物体部分和第二物体部分。

15.如权利要求14所述的方法,所述第一物体部分是底部,所述第二物体部分是所述掩模原版台的顶部。

16.一种制造掩模原版台或晶片台的方法,包括用权利要求1所述的方法将测量系统的部件分别连接到掩模原版台主体或晶片台主体上的步骤,所述第一物体部分是所述可移动物体,所述第二物体部分是所述部件。

17.一种物体,包含第一物体部分和第二物体部分,所述第一物体部分和所述第二物体部分由具有低热膨胀系数的材料制成,且在所述第一物体部分的第一表面和所述第二物体部分的第二表面上由基本覆盖所述第一表面和/或所述第二表面的粘接剂膜相互连接,所述粘接剂膜具有1-8μm的厚度。

18.如权利要求17所述的物体,其中,所述粘接剂膜具有2-6μm的厚度。

19.如权利要求18所述的物体,其中,所述粘接剂膜具有2-4μm的厚度。

20.如权利要求17所述的物体,其中,所述第一物体部分和所述第二物体部分仅由所述粘接剂膜相互连接。

21.如权利要求17所述的物体,其中,所述连续粘接剂膜基本上遍布所述第一表面和所述第二表面的表面面积。

22.如权利要求17所述的物体,其中,所述粘接剂是选自双酚A和双酚F类的环氧树脂。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710109896.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top