[发明专利]半导体器件及其制造方法有效
| 申请号: | 200710109090.8 | 申请日: | 2007-06-18 | 
| 公开(公告)号: | CN101090121A | 公开(公告)日: | 2007-12-19 | 
| 发明(设计)人: | 西山伸泰 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 | 
| 主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L23/522;H01L29/423;H01L21/027;H01L21/28 | 
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 李峥;于静 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
1.一种半导体器件,其特征在于,具备:
具有多个具有串联连接的电可改写的多个存储单元的存储单元单位的至少2个存储单元块;
形成为大致矩形的闭环形状或大致U字型的开环形状、各环与相邻的2个存储单元块中的一方的存储单元块内的所述多个存储单元单位的规定的存储单元、和相邻的所述2个存储单元块中的另一方的存储单元块内的所述多个存储单元单位的规定的存储单元分别连接、选择所述2个存储单元块内的多个存储单元的多个单元栅,各个单元栅具有向与所述2个存储单元块的相邻方向正交的第1方向延伸的第1部分和从所述第1部分的端部向作为所述2个存储单元块的相邻方向的第2方向延伸的第2部分;以及
在所述存储单元块内形成于隔着所述多个单元栅的位置上,用于选择所述存储单元块的第1、第2选择栅;
其中,所述单元栅的所述第2部分具有与所述第1选择栅的端部相对的面。
2.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于:所述多个单元栅,具有跨着相邻的所述2个存储单元块配置的大致矩形的闭环形状。
3.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于:
所述多个单元栅,具有在相邻的2个存储单元块间环被分割的大致U字型的开环形状;
在相邻的2个存储单元块之间,各个所述开环形状的开口部以相对的方式被对称配置。
4.根据权利要求3所述的半导体器件,其特征在于:所述多个单元栅,在1个所述存储单元块内,以所述开口部全部朝向同一方向的方式配置。
5.根据权利要求3所述的半导体器件,其特征在于:所述多个单元栅,在1个所述存储单元块内,以所述开口部朝向相互相反的方向的方式按照每多数条配置。
6.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于:所述多个单元栅,在与所述2个存储单元块的相邻的方向平行的边的任意一个或双方的相邻单元栅间隔,比在与所述2个存储单元块的相邻的方向正交的方向的边的所述相邻单元栅间隔设定得更宽。
7.根据权利要求6所述的半导体器件,其特征在于:连接所述多个单元栅和布线的接触,设置在相邻单元栅间隔被设定得更宽的所述多个单元栅的所述边上。
8.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于:所述多个单元栅,在与所述2个存储单元块的相邻的方向平行的2边的相邻单元栅间隔,比在与所述2个存储单元块的相邻的方向正交的方向的边的所述相邻单元栅间隔设定得更宽;
连接所述多个单元栅和布线的接触,交替设置在相邻单元栅间隔被设定得更宽的所述多个单元栅的所述2边上。
9.根据权利要求3所述的半导体器件,其特征在于:配置在相邻的所述2个存储单元块内的所述多个单元栅,所述环的分割部分在所述相邻的2个存储单元块间排列在一直线上。
10.根据权利要求1所述的半导体器件,其特征在于:所述多个单元栅的从外周侧向内周侧第n个单元栅和第(n+1)个单元栅形成的间隔,被设定为从规定的位置向着角部逐渐向内周侧变宽,其中n是奇数。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





