[发明专利]重叠标记及其应用

权利要求书

1.一种重叠标记，用以检查由第一与第二曝光步骤所定义的一下晶圆层与用以定义一上晶圆层的光刻制作工艺之间的对准度，包括：

所述的下晶圆层的一部分，包括二第一X向条状图形、二第一Y向条状图形、二第二X向条状图形以及二第二Y向条状图形，其中

所述的二第一X向与所述的二第一Y向条状图形是由所述的第一曝光步骤所定义的，且定义出一第一矩形，并且

所述的二第二X向与所述的二第二Y向条状图形是由所述的第二曝光步骤所定义的，且定义出一第二矩形，其X向尺寸D_2X大于所述的第一矩形的X向尺寸D_1X，但Y向尺寸D_2Y小于所述的第一矩形的Y向尺寸D_1Y；以及

一光刻胶图案，位于所述的下晶圆层的所述的部分的上方而被所述的这些条状图形所围绕，且是由所述的光刻制作工艺所形成的，

其中当所述的下晶圆层与所述的光刻制作工艺完全对准时，所述的二第一X向条状图形的中线与所述的二第一Y向条状图形的中线的交点、所述的二第二X向条状图形的中线与所述的二第二Y向条状图形的中线的交点，以及所述的光刻胶图案的中心点三者重合。

2.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，D_1X、D_1Y、D_2X、D_2Y之间的关系为D_1X＝D_2Y＜D_2X＝D_1Y。

3.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，各第一X向条状图形的宽度与各第二X向条状图形不同，且各第一Y向条状图形的宽度与各第二Y向条状图形不同。

4.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，所述的光刻胶图案包括一实心矩形光刻胶图形，或是包括定义出一第三矩形的二X向条状光刻胶图形及二Y向条状光刻胶图形。

5.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，所述的这些条状图形皆为线图形，或是形成在下晶圆层的所述的部分中的沟渠。

6.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，所述的第一曝光步骤与所述的第二曝光步骤属于同一道光刻制作工艺，而组成一双重曝光制作工艺，或分别属于两道光刻制作工艺，而定义不同的光刻胶层。

7.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，所述的第一曝光步骤与所述的第二曝光步骤二者中有一者使用X-偶极偏轴光源，另一者使用Y-偶极偏轴光源。

8.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，所述的第一及所述的第二曝光步骤共同用以在所述的下晶圆层中定义出间距小于所述的二曝光步骤各自的分辨率的多个图形。

9.根据权利要求8所述的重叠标记，其特征在于，所述的这些图形包括多条线图形或多条沟渠。

10.根据权利要求1所述的重叠标记，其特征在于，

所述的第一及所述的第二曝光步骤共同用以定义间距小于所述的二曝光步骤各自的分辨率的多条平行导线，以及连接在所述的这些导线末端的多个接触垫，其中所述的第一及所述的第二曝光步骤各自在其分辨率允许的范围内定义部分导线与部分接触垫；

每一个接触垫与一导线相连，且前者的宽度大于后者的宽度；并且

分别与两相邻导线连接的两相邻接触垫在所述的这些导线延伸方向上的位置错开，使得所述的两相邻接触垫不致重叠。