[发明专利]常压等离子体喷墨涂布装置以及制作彩色滤光膜的方法

权利要求书

1.一种常压等离子体喷墨涂布装置，包括：

喷孔片，其上包括第一排喷孔及第二排喷孔；

喷墨头模块，具至少一彩色墨水对应该第一排喷孔：以及

常压等离子体模块对应该第二排喷孔。

2.如权利要求1所述的常压等离子体喷墨涂布装置，还包括框架，使该喷墨头模块与该常压等离子体模块整合于一体。

3.如权利要求1所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该喷孔片还包括狭缝型喷口。

4.如权利要求3所述的常压等离子体喷墨涂布装置，还包括辅助常压等离子体模块对应该狭缝型喷口。

5.如权利要求3所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第一排喷孔设置于该第二排喷孔与该狭缝型喷口之间。

6.如权利要求3所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第二排喷孔设置于该第一排喷孔与该狭缝型喷口之间。

7.如权利要求1所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第一排喷孔包括多个第一喷孔，以及该第一排喷孔包括多个第二喷孔，其中各个该第一喷孔与各个该第二喷孔沿水平方向错位。

8.如权利要求1所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第一排喷孔包括多个第一喷孔，以及该第一排喷孔包括多个第二喷孔，其中各个该第一喷孔与各个该第二喷孔沿水平方向对齐。

9.如权利要求1所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中：

该喷孔片还包括狭缝型喷口；

该喷墨头模块的至少一彩色墨水源经由导管连接该第一排喷孔；

该常压等离子体模块具有等离子体源产生常压等离子体至对应该第二排喷孔；以及

辅助常压等离子体模块，由该等离子体源产生常压等离子体至对应该狭缝型喷口。

10.如权利要求9所述的常压等离子体喷墨涂布装置，还包括框架，使该喷墨头模块与该常压等离子体模块整合于一体。

11.如权利要求9所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该喷墨头模块与该常压等离子体模块分别动作。

12.如权利要求9所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第一排喷孔设置于该第二排喷孔与该狭缝型喷口之间。

13.如权利要求9所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第二排喷孔设置于该第一排喷孔与该狭缝型喷口之间。

14.如权利要求9所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第一排喷孔包括多个第一喷孔，以及该第一排喷孔包括多个第二喷孔，其中各个该第一喷孔与各个该第二喷孔沿水平方向错位。

15.如权利要求9所述的常压等离子体喷墨涂布装置，其中该第一排喷孔包括多个第一喷孔，以及该第一排喷孔包括多个第二喷孔，其中各个该第一喷孔与各个该第二喷孔沿水平方向对齐。

16.一种以常压等离子体喷墨涂布装置制作彩色滤光膜的方法，包括：

提供基板；

形成图案化黑色矩阵层于该基板上，并定义出多个像素区域；

由权利要求1所述的常压等离子体喷墨涂布装置的该喷墨头模块喷涂彩色墨水材料于各个该像素区域中；以及

由该常压等离子体喷墨涂布装置的该常压等离子体模块对该基板进行表面处理。

17.如权利要求16所述的以常压等离子体喷墨涂布装置制作彩色滤光膜的方法，其中形成该图案化黑色矩阵层于该基板上的步骤包括：

进行全面性的常压等离子体处理该基板，使其成为憎水性；

由该常压等离子体喷墨涂布装置的该常压等离子体模块对该基板进行局部的表面处理，以定义出亲水性的黑色矩阵区域；以及

由该常压等离子体喷墨涂布装置的该喷墨头模块喷涂黑色矩阵材料于亲水性的该黑色矩阵区域。

18.如权利要求16所述的以常压等离子体喷墨涂布装置制作彩色滤光膜的方法，其中由该常压等离子体喷墨涂布装置的该常压等离子体模块对该基板进行表面处理的步骤包括对该基板进行全面性的表面处理。