[发明专利]狭缝喷嘴的横向喷射均匀度测量装置及方法无效
申请号: | 200710107441.1 | 申请日: | 2007-05-11 |
公开(公告)号: | CN101078882A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | 赵康一 | 申请(专利权)人: | K.C.科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;刘奕晴 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 狭缝 喷嘴 横向 喷射 均匀 测量 装置 方法 | ||
1.一种喷射均匀度测量装置,用于测量狭缝喷嘴的喷射均匀度,其特征在于包含:
沿所述狭缝喷嘴的横向并排的多个流体压力测量单元,该流体压力测量单元具有压电元件以及与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的流体压力检测面,并测量所述喷出口所喷出的水或气体的喷射压力;
控制单元,该控制单元计量施加在所述流体压力测量单元上的喷射压力而算出均匀度,并进行显示,
所述流体压力测量单元的检测面的前后方向的宽度大于所述狭缝喷嘴的喷出口的距离,
对所述流体压力测量单元进行表面处理以使其对喷射流体具有疏水性,
在所述流体压力测量单元的检测面与前方表面之间或者所述流体压力测量单元的检测面与后方表面之间形成倾斜面。
2.根据权利要求1所述的喷射均匀度测量装置,其特征在于所述检测面和倾斜面之间的棱角形成为圆角。
3.一种喷射均匀度测量装置,用于测量狭缝喷嘴的喷射均匀度,其特征在于包含:
沿所述狭缝喷嘴的横向并排的流体压力测量单元,该流体压力测量单元具有压电元件以及与所述狭缝喷嘴的喷出口相对的流体压力检测面,并测量所述喷出口所喷出的水或气体的喷射压力;
控制单元,该控制单元计量施加在所述流体压力测量单元上的喷射压力而算出均匀度,并进行显示;
移动单元,以用于沿所述狭缝喷嘴的横向移动所述流体压力测量单元,
所述流体压力测量单元的检测面的前后方向的宽度大于所述狭缝喷嘴的喷出口的距离,
对所述流体压力测量单元进行表面处理以使其对喷射流体具有疏水性,
在所述流体压力测量单元的检测面与前方表面之间或者所述流体压力测量单元的检测面与后方表面之间形成倾斜面。
4.根据权利要求3所述的喷射均匀度测量装置,其特征在于所述检测面和倾斜面之间的棱角形成为圆角。
5.一种喷射均匀度测量方法,用于采用权利要求1或3的喷射均匀度测量装置测量狭缝喷嘴的喷射均匀度,其特征在于包含步骤:
通过所述狭缝喷嘴的喷出口喷出流体;
测量沿所述狭缝喷嘴的横向喷出的流体的喷射压力;
根据测量的所述喷射压力算出均匀度,并进行显示。
6.根据权利要求5所述的喷射均匀度测量方法,其特征在于所述测量流体喷射压力的步骤包含沿所述狭缝喷嘴的横向并排多个流体压力测量单元而同时进行测量的步骤。
7.根据权利要求5所述的喷射均匀度测量方法,其特征在于所述测量流体喷射压力的步骤包含沿所述狭缝喷嘴的横向移动一个流体压力测量单元而进行测量的步骤。
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