[发明专利]用于检测设备的透镜拼接方法及其系统无效
| 申请号: | 200710106032.X | 申请日: | 2007-05-30 |
| 公开(公告)号: | CN101315470A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
| 发明(设计)人: | 许巍耀;曾释锋;林宇仁 | 申请(专利权)人: | 赖秀惠 |
| 主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02B7/02 |
| 代理公司: | 北京天平专利商标代理有限公司 | 代理人: | 张争艳 |
| 地址: | 中国台湾台北县新庄*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 检测 设备 透镜 拼接 方法 及其 系统 | ||
1、一种用于检测设备的透镜拼接方法,尤指运用于检测基板中所使用的拼接式透镜,其特征在于,该透镜的拼接方法包括有:
将欲形成于拼接式透镜中央位置的透镜以原中心点进行裁切以形成中央透镜;
将欲与中央透镜拼接的透镜以中心点偏移的方式进行裁切以形成偏移透镜;及
将中央透镜与偏移透镜进行拼接以形成拼接式透镜。
2、如权利要求1所述的透镜拼接方法,其特征在于,该拼接式透镜具有一个以上的中央透镜或偏移透镜,且裁切后的偏移透镜与中央透镜的尺寸相同。
3、如权利要求1所述的透镜拼接方法,其特征在于,该偏移透镜与中央透镜间所形成的曲率半径小于中央透镜的宽度。
4、如权利要求1所述的透镜拼接方法,其特征在于,该透镜以中心点偏移进行裁切的方式为以透镜中心点为基准进行水平向或垂直向的位移。
5、一种检测设备的系统,尤指运用于玻璃基板、印刷电路基板或晶圆基板领域的检测系统,其特征在于,该系统主要包括有:
可发出测试光源的光源投射机;
可将光源投射机所发出的测试光源进行反射的反射镜;
具有将光线进行集中或聚焦特性的拼接式透镜;及
欲作为检验或测试的待测基板。
6、如权利要求5所述的检测设备系统,其特征在于,该拼接式透镜系由一个以上的裁切后的中央透镜及偏移透镜所构成,且透镜为奇数个或偶数个,而裁切后的偏移透镜与裁切后的中央透镜尺寸相同。
7、如权利要求6所述的检测设备系统,其特征在于,该裁切后的偏移透镜与中央透镜间所形成的曲率半径小于中央透镜的宽度。
8、如权利要求6所述的检测设备系统,其特征在于,该透镜为具集中光线或聚光特性的凸透镜或菲涅尔透镜。
9、一种用于检测设备的透镜拼接方法,尤指运用于检测基板中所使用的拼接式透镜,其特征在于,偶数个透镜的拼接方法包括有:
取得两片透镜间所形成的曲率中心间距;
取得两片透镜欲裁切于的宽度范围;
以上述曲率中心间距为基准并对两片透镜进行平移裁切;
将两片透镜进行拼接。
10、一种检测设备的系统,尤指运用于玻璃基板、印刷电路基板或晶圆基板领域的检测系统,该系统主要包括有可发出测试光源的光源投射机、可将光源投射机所发出的测试光源进行反射的反射镜、具有聚焦特性的拼接式透镜及一待测基板,其特征在于:藉由将一个以上裁切后的透镜进行拼接,将增加拼接式透镜的尺寸,并于该待测基板上形成分布均匀的光斑。
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