[发明专利]液晶配向系统

权利要求书

1.一种液晶配向系统，应用于对基材表面的配向膜进行配向，包括：

机台，具有制程空间；

基材移载机构，设于该制程空间，用于移载该基材进行配向；以及

数个等离子体产生装置，以可调变方向与角度地设于该制程空间并分别排列面对该基材移载机构，用于对该配向膜进行改质，从而藉单次制造过程即达成预倾角稳定配向的效果。

2.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该制程空间为单一式腔体及连续式腔体的其中之一。

3.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该基材摆设方式选自包括水平、水平旋转角度、垂直及倾斜角度的其中一种。

4.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该基材移载机构同时移载数个基材进行配向膜的配向。

5.根据权利要求4所述的液晶配向系统，其中，该数个基材的设置方式选自包括水平或垂直于配向系统、相对垂直于等离子体束或形成一倾斜角度、以及数个基材相互平行或相互形成一夹角的其中一种。

6.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该基材移载机构环设于数个等离子体产生装置的外侧。

7.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该数个等离子体产生装置环设于基材移载机构的外侧。

8.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该等离子体产生装置为产生等离子体源及离子源的其中之一。

9.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该数个等离子体产生装置选自并联排列、串联排列的至少其中之一。

10.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该制程空间的操作条件为介于常压与真空的压力环境中。

11.根据权利要求10所述的液晶配向系统，其中，该制程空间的压力环境为介于760Torr至1×10^-5Torr之间。

12.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，该等离子体产生装置面对于该基材表面的法线方向的角度范围介于0°至90°之间。

13.根据权利要求1所述的液晶配向系统，其中，各该等离子体产生装置供产生相同或不同能量的等离子体源。