[发明专利]处理气体导入机构和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，它具备：

产生等离子体的等离子体发生部；

在内部收容被处理基板的腔室；

设置在所述等离子体发生部和所述腔室之间，支撑所述等离子发生部并且装载在所述腔室上，将等离子体形成用的处理气体导入由所述等离子体发生部和所述腔室划成的处理空间的处理气体导入机构；和

将所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部相对所述腔室进行装拆的拆装机构。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述拆装机构包含使所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部一体地转动的绞链机构。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述拆装机构具有当使所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部一体地转动并取出时，对所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部，在其转动方向上加上作用力的缓冲器机构。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述拆装机构具有用于进行所述处理气体导入机构和所述等离子体发生部的装上卸下动作的把柄部。

5.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述等离子体发生部具有：电介质壁、设置在所述电介质壁外侧的天线、和向天线供给高频功率的高频电源，通过向所述天线供给高频功率，经过所述电介质壁在所述处理空间中形成感应耦合等离子体。

6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于：

所述电介质壁是钟罩，所述天线是卷绕在所述钟罩的外周的线圈。

7.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述处理气体导入机构具有：

支撑所述等离子发生部并且装载在所述腔室，形成将处理气体导入所述处理空间的气体导入通路，在其中央具有成为所述处理空间的一部分的空穴部的气体导入基座；和

可以取出地安装在所述气体导入基座的所述空穴部中，具有从所述气体导入通路连通到所述处理空间而将所述处理气体喷出到所述处理空间的多个气体喷出孔的形成大致环状的气体导入板。