[发明专利]设备、膜形成方法及设备的制造方法有效

专利信息
申请号: 200710104951.3 申请日: 2007-05-17
公开(公告)号: CN101076211A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: 三桥悦央;关俊一 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H05B33/14 分类号: H05B33/14;H05B33/12;H05B33/10;H05B33/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 设备 形成 方法 制造
【权利要求书】:

1.一种有机EL元件,

具备:

隔壁;

膜,设置在由所述隔壁区划出的区域,包括空穴注入/输送层和发光层; 和

在由所述隔壁区划出的区域的外周部部分地除去所述隔壁的槽,

所述槽形成为环状,

所述膜设置为与所述槽相重叠,

所述隔壁包括对液体材料具有亲液性的亲液层即第一隔壁层、和对所 述液体材料具有疏液性的疏液层即第二隔壁层,

所述第一隔壁层的厚度与所述空穴注入/输送层的厚度相同。

2.根据权利要求1所述的有机EL元件,其特征在于,

所述槽的深度根据离所述隔壁的距离而不同。

3.一种膜形成方法,在由隔壁区划出的区域配置包括功能性材料的 液体材料并形成包括空穴注入/输送层和发光层的所述功能性材料的膜,

包括:

在由所述隔壁区划出的区域的外周部部分地除去所述隔壁来形成槽 的工序;

在由所述隔壁区划出的区域配置液体材料的工序;和

将所述液体材料进行干燥,以与所述槽重叠的方式形成所述膜的工 序,

所述槽朝向隔壁的外周侧变深,

所述隔壁包括对所述液体材料具有亲液性的亲液层即第一隔壁层、和 对所述液体材料具有疏液性的疏液层即第二隔壁层,

所述第一隔壁层的厚度与所述空穴注入/输送层的厚度相同。

4.根据权利要求3所述的膜形成方法,其特征在于,

所述槽由与形成所述隔壁的工序相同的工序来形成。

5.根据权利要求3或4所述的膜形成方法,其特征在于,

在进行配置所述液体材料的工序时,在所述隔壁的表面形成对所述液 体材料具有亲液性的亲液区域。

6.根据权利要求5所述的膜形成方法,其特征在于,

所述隔壁包括对所述液体材料具有亲液性的亲液层、和对所述液体材 料具有疏液性的疏液层,由在所述隔壁的表面露出的所述亲液层来形成所 述亲液区域。

7.根据权利要求6所述的膜形成方法,其特征在于,

所述隔壁的形成工序包括:

形成所述亲液层的工序;

在所述亲液层上形成所述疏液层的工序;

对所述疏液层图案化的工序;和

将所述疏液层作为掩模来对所述亲液层图案化的工序。

8.根据权利要求6或7所述的膜形成方法,其特征在于,

所述亲液层的厚度与成为对象的膜的厚度相等。

9.一种有机EL元件的制造方法,具有在由隔壁区划出的区域配置液 体材料而形成膜的工序,

形成所述膜的工序通过权利要求3~8中任一项所述的膜形成方法来 进行。

10.根据权利要求9所述的有机EL元件的制造方法,其特征在于,

所述有机EL元件在所述电极上具备包括空穴注入/输送层和发光层的 膜,

形成所述膜的工序包括:

在由所述隔壁区划出的区域配置含有所述空穴注入/输送层的形成材 料的液体材料,而形成所述空穴注入/输送层的工序;和

在所述空穴注入/输送层上配置含有所述发光层的形成材料的液体材 料,而形成所述发光层的工序。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710104951.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top