[发明专利]润滑膜形成方法、具备润滑膜的滑动体、磁记录介质、磁头滑块和硬盘驱动器有效

专利信息
申请号: 200710104888.3 申请日: 2007-05-24
公开(公告)号: CN101079270A 公开(公告)日: 2007-11-28
发明(设计)人: 富元诚;村越龙太;苏立志;清野浩 申请(专利权)人: TDK株式会社;新科实业有限公司
主分类号: G11B5/725 分类号: G11B5/725;G11B5/84;G11B5/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 润滑 形成 方法 具备 滑动 记录 介质 磁头 硬盘驱动器
【说明书】:

技术领域

发明涉及润滑膜形成方法、具备润滑膜的滑动体、磁记录介质、 磁头滑块和硬盘驱动器。

背景技术

在硬盘驱动器中的硬盘(磁记录介质)的表面或磁头滑块的表面 等的,与其它部件滑动等进行接触的,或者有那种可能性的基材的表 面(滑动面)上,需要形成润滑膜。

并且,已知有:如在日本特开平11-203670号公报、日本特开 2001-93141号公报、日本特开2000-322734号公报以及日本特开 2003-228810号公报中所公开的,在基材的表面涂布润滑剂之后进行加 热使润滑剂粘着在基材表面上的方法;如日本特开平11-25452号公报 中所公开的,在基材的表面涂布润滑剂后照射UV的方法;如日本特 开平6-215367号公报中所公开的,在基材的表面涂布润滑剂之后照射 中性自由基的方法;如日本特开平7-326151号公报、日本特开 2004-152462号公报、日本特开2002-109718号公报所公开的,在向基 材的表面形成润滑剂层时或形成之后用等离子体或气体等对润滑剂层 进行表面改性的方法;如日本特开平6-44558号公报、日本特开平 5-143975号公报、日本特开平5-189752号公报、日本特开平5-205246 号公报、日本特开平6-172479号公报所公开的,向基材的表面涂布具 有极性基团的润滑剂的方法;如日本特开平11-66555号公报所记载的, 在涂布润滑剂之后照射300nm以下的激光以驱散润滑剂的一部分,从 而进行薄膜化的方法等的润滑膜形成方法;如日本特开2005-187656 号公报所记载的,在基材的表面上形成自组装单分子膜后,使润滑剂 吸附在自组装单分子膜上的方法等的润滑膜形成方法等。

发明内容

但是,现有技术的方法中,润滑膜在基材上的固定不充分,润滑 膜的耐久性不够。

本发明是鉴于上述课题而做出的,目的在于提供能够发挥足够的 耐久性的润滑膜的形成方法,以及使用其的磁记录介质或磁头滑块的 制造方法。

本发明的润滑膜的形成方法具备,对涂布在基材的表面的具有OH 基的润滑剂照射激发OH基的OH键的振动的红外激光的工序。

根据本发明,通过照射红外激光来激发润滑剂的OH基的OH键 的振动。由此,润滑剂的OH基与基材的表面的反应性得到提高,容 易使润滑剂在基材的表面化学性结合,润滑剂的耐久性得到提高。

具体来说,认为是如下的机理。即,在基材的表面存在被称作悬 空键的末端键。通常,该悬空键存在不与其它原子结合的状态,与OH 基结合的状态,与水分子形成氢键(吸附)的状态等。并且,根据上 述的发明,通过照射激光而激发润滑剂的OH基的OH键的振动,OH 基被活化,反应性得到提高,容易与基材表面的悬空键结合。因而, 能够使润滑剂例如经由来自OH基的O原子而与基材表面的悬空键容 易地形成共价键。从而提高润滑膜的耐久性。

这里,在上述工序中,优选照射波长0.9~8μm的红外激光,或者, 通过由红外激光引起的多光子吸收来吸收对应于波长0.9~8μm的光的 能量。特别优选照射波长0.9~1.1μm或波长2.7~3.0μm的红外激光, 或者,通过由红外激光引起的多光子吸收来吸收对应于波长0.9~ 1.1μm或波长2.7~3.0μm的光的能量。

此外,优选在上述工序中进行多光子吸收,并照射红外激光以使 得在上述基材的上述表面或上述润滑剂中基材侧的部分形成红外激光 的焦点。

由此,对基材的表面附近的润滑剂的OH基,能够选择性进行由 于红外光的吸收而产生的激发,因此能够抑制在界面以外的多余的副 反应等,因而优选。此外,在多光子吸收中,在焦点以外几乎不吸收 光,因此即使由润滑剂形成的膜很厚也可以充分地实施。

此外,还优选使用透过了均化器的红外激光作为上述红外激光。 此时,利用均化器使激光的强度分布在面内平坦,因而能够以均匀的 照射强度迅速处理较宽的面积。

此外,优选上述润滑剂形成2nm以下的厚度的层。

由此,由于能够使红外激光特别地充分到达润滑剂与基材的界面 附近,因此能够高效地进行在位于基材的表面附近的润滑剂的OH基 上的红外激光的吸收。

此外,优选红外激光的照射强度为60J/cm2以下。

照射强度超过60J/cm2时有时会给润滑剂或基材的表面带来损坏。

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