[发明专利]描图系统有效
| 申请号: | 200710104680.1 | 申请日: | 2007-05-29 |
| 公开(公告)号: | CN101082781A | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
| 发明(设计)人: | 鹫山裕之 | 申请(专利权)人: | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄纶伟 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 描图 系统 | ||
1.一种描图系统,该描图系统使用将复数个光调变组件沿着扫瞄方向规则性地排列而成的光调变单元,由上述光调变单元的曝光范围对于被描图体以一定速度相对性的做扫瞄,以某曝光动作时间间隔实施曝光动作使各光调变组件的曝光范围域重叠,该描图系统的特征在于,该描图系统包括:
计算装置,其根据相对于上述被描图体的曝光范围的相对性的扫瞄速度、表示以上述扫瞄速度在上述曝光动作时间间隔内上述曝光范围移动的距离的曝光动作间距、作为在照射光实际上对上述被描图体照射的期间上述曝光范围移动的距离的发光延续距离中预设的任一参数,从上述曝光动作间距、上述扫瞄速度、上述发光延续距离之间的关系式除去上述一参数而计算出剩下的二个参数;以及
曝光参数设定装置,其将预设及上述计算装置所算出的扫瞄速度、曝光动作时间间隔、发光延续距离作为描图处理的曝光参数而设定,其中上述计算装置满足两条件式解出而计算出上述剩下的二个参数,两条件式包括一第1式及一第2式,第1式系表示根据描图系统的光源及曝光用光学系的特性而决定的到达被描图体的到达照射光量系满足对应于上述被描图体的感光材料特性而决定的曝光量的条件式,相对于上述扫瞄速度,上述发光延续距离成正比,而上述曝光动作间距成反比,第2式系表示关于描图处理的数据处理速度的限制而规定的条件式,相对于上述扫瞄速度,上述曝光动作间距成正比的关系,
其中,上述第1式和上述第2式系以下的方程式表示:
V=((P0)×α×Ld)/(EP×C×E) ....(1)
V=(EP/tp) ....(2)
其中,V表示扫瞄速度mm/sec,Ld表示发光延续距离mm,EP表示曝光动作间距mm,PO表示光源的照明功率W,α表示光源的照明功率中实际上到达基板SW的照明功率的比例,E为表示被描图体的曝光感度的曝光量W·sec/mm2,且为形成图案所必要的每单位面积的总光量,C为光调变组件照射点的尺寸mm,tp表示向光调变单元的描图资料传送时间。
2.如权利要求1所述的描图系统,其中,上述计算装置根据预设的发光延续距离计算出曝光动作间距及扫瞄速度。
3.如权利要求1所述的描图系统,其中,上述计算装置系根据预设的发光延续距离与设定的复数个曝光量而分别计算出曝光速度及曝光动作间距的二个参数;上述设定装置将上述预设的发光延续距离及上述分别计算出的曝光速度、曝光动作间距与上述设定的复数个曝光量的值对应而记录在内存中;上述设定装置从上述内存中读出对应于由操作员选出的曝光量所对应的扫瞄速度、曝光动作间距及发光延续距离,而设定曝光参数。
4.如权利要求3所述的描图系统,该描图系统还包括显示装置,该显示装置将上述复数个曝光量的值显示于显示装置上。
5.如权利要求1所述的描图系统,其中,上述计算装置系根据预设的曝光量与设定的复数个发光延续距离而分别计算出曝光速度及曝光动作间距的二个参数,
上述设定装置将上述分别计算出的曝光速度、曝光动作间距及上述设定的复数个发光延续距离与该曝光量的值对应而记录在内存中,
上述设定装置从上述内存中读出对应于由操作员选出的发光延续距离所对应的扫瞄速度及曝光动作间距,而设定曝光参数。
6.如权利要求5所述的描图系统,该描图系统还包括显示装置,该显示装置将上述复数个发光延续距离的值显示于显示装置上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社ORC制作所,未经株式会社ORC制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710104680.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





