[发明专利]一种装饰防护涂层及其合成方法

权利要求书

1.一种可用于电子产品和/或金属外壳的装饰防护涂层，其特征在于：所述涂层颜色为黑色，所述涂层主要由硅-碳-氮三组元构成且原子百分比(at％)为：硅35％-43％，碳20％-27％，氮45％-30％，或所述涂层主要由钛-硅-碳-氮四组元构成且组分的原子百分比(at％)为：钛15％-27％，硅40％-30％，碳25％-13％，氮20％-30％。

2.如权利要求1所述的装饰防护涂层，其特征在于所述涂层主要由硅-碳-氮三组元构成时所述涂层颜色的色度值范围为：20＜L＜50，-5＜A＜5，-5＜B＜5，所述涂层主要由钛-硅-碳-氮四组元构成时所述涂层颜色的色度值范围为：30＜L＜50，-5＜A＜5，-5＜B＜5。

3.如权利要求1所述的装饰防护涂层，其特征在于所述涂层主要由硅-碳-氮三组元构成且涂层组分的原子百分比(at％)为：硅37％-40％，碳20％-25％，氮43％-35％。

4.如权利要求1所述的装饰防护涂层，其特征在于所述涂层主要由钛-硅-碳-氮四组元构成且所述涂层组分的原子百分比(at％)为：钛18％-25％，硅37％-32％，碳15％-22％，氮30％-21％。

5.如权利要求1所述的装饰防护涂层，其特征在于所述涂层厚度为1.0-8.0μm。

6.如权利要求5所述的装饰防护涂层，其特征在于所述涂层厚度为2.0-4.0μm。

7.如权利要求6所述的装饰防护涂层，其特征在于所述涂层显微硬度HV_0.020大于等于30GPa。

8.如权利要求1所述的装饰防护涂层，其特征在于在所述涂层与所欲涂覆的基体之间添加有过渡层；所述涂层的外表面附加有其它涂层。

9.如权利要求8所述的装饰防护涂层，其中所述其它附加涂层为防污或着色附加涂层。

10.一种合成如权利要求1所述的装饰防护涂层的方法，其特征在于所述方法包括低压气相沉积过程，当所述涂层主要由硅-碳-氮三组元构成时，采用硅的单质或合金靶材通过调节靶的电源功率，获得相应比例的硅组分；当所述涂层主要由钛-硅-碳-氮四组元构成时，分别采用钛 和硅的单质或合金靶材通过调节靶的电源功率，获得相应比例的钛、硅组分；采用单质石墨或碳的合金靶材通过调节其电源功率，或采用碳氢气体化合物并利用质量流量计调节反应气体流量来获得相应比例的碳组分；利用质量流量计调节反应气体氮的流量来控制涂层的氮组分，以此获得涂层颜色和性能。

11.如权利要求10所述的合成方法，其特征在于所述低压气相沉积采用溅射、电弧离子镀方法实现。

12.如权利要求11所述的合成方法，其特征在于所述溅射、电弧离子镀方法采用定向发射的靶材旋转圆柱形中频磁控溅射，并结合靶材旋转的圆柱形电弧离子镀。

13.如权利要求12所述的合成方法，其特征在于所述磁控溅射采用具有在线清洗功能的靶装置和/或具有在线清洗功能的阳极装置。

14.如权利要求10所述的合成方法，其特征在于所述碳氢气体化合物为CH₄或C₂H₂。