[发明专利]光掩模和曝光方法

权利要求书

1.一种光掩模，所述光掩模用于使用曝光设备的图样转移，所述光 掩模包括：

透明衬底；

需求的转移图样，所述需求的转移图样形成在透明衬底的中心部分的 主要区域内；

遮光带区域，所述遮光带区域在所述主要区域的外周边区域内邻近所 述主要区域，用于防止图样由于泄露的光线转移到所述主要区域的外周边 区域；和

护膜，通过将护膜框架粘附到所述主要区域的外周边区域上，所述护 膜安装成覆盖包括所述主要区域和所述遮光带区域的区域，其中所述光掩 模包括在所述主要区域的外周边区域内的光透射区域，所述透明衬底在所 述光透射区域内被露出；和包括护膜框架粘附到其上的表面的区域，所述 包括护膜框架粘附到其上的表面的区域由遮光区域形成，所述遮光区域形 成有遮光薄膜，所述遮光薄膜具有对所述曝光设备的曝光光线的遮光特 性，

其中所述遮光区域形成为具有将所述护膜框架的两侧的宽度分别增 加0.3mm以上且5.0mm以下的宽度，并与所述遮光带区域被所述光透射 区域隔开。

2.根据权利要求1所述的光掩模，其中所述转移图样为通过使用负 性光刻胶形成的图样。

3.根据权利要求1所述的光掩模，其中所述曝光设备的曝光光线是 当所述护膜框架和/或在所述护膜中使用的粘合剂被此光线照射时，引起所 述护膜框架和/或所述粘合剂的组成材料的光致反应的光线。

4.根据权利要求1所述的光掩模，其中所述曝光设备的曝光光线是 具有200nm或更小的波长的激光束。

5.一种光掩模的制造方法，所述光掩模用于使用曝光设备的图样转 移，并安装有护膜，所述制造方法包括以下步骤：

通过对透明衬底上所形成的遮光薄膜进行图案形成，分别形成转移用 图样、遮光带区域、遮光区域、使所述透明衬底露出的光透射区域，

所述转移用图样形成在所述透明衬底的中心部分的主要区域内，

所述遮光带区域在所述主要区域的外周边区域内邻近所述主要 区域，用于防止图样由于泄露的光线转移到所述主要区域的外周边区域，

所述光透射区域形成在所述主要区域的外周边区域内，

所述遮光区域以通过所述光透射区域与所述遮光带区域隔开的 方式形成在所述主要区域的外周边区域内，并且所述遮光区域形成为包括 粘附护膜框架的表面的区域对所述曝光光线具有遮光特性，

通过配合所述遮光区域来粘附所述护膜框架，所述主要区域和所述遮 光带区域被所述护膜覆盖，

其中所述遮光区域具有将所述护膜框架的两侧的宽度分别增加 0.3mm以上且5.0mm以下的宽度。

6.根据权利要求5所述的光掩模的制造方法，其中在所述转移用图 样和所述遮光区域之间形成由所述遮光薄膜构成的遮光带区域。

7.根据权利要求5所述的光掩模的制造方法，其中所述转移用图样 是通过使用负性光刻胶形成的图样。

8.根据权利要求5所述的光掩模的制造方法，其中所述遮光薄膜包 括半透过薄膜。