[发明专利]液晶显示设备及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示设备，包括：

第一基板；

面对第一基板的第二基板；和

夹在第一基板和第二基板之间的液晶层，

其中给像素设置反射区和透射区，像素具有由设置在第一基板上的反射区的反射电极和透射区的透射电极组成的像素电极，反射电极形成在由有机膜制成的不平坦层上，透射区包括由与不平坦层相同的有机膜材料形成的凸起，从而使液晶层中液晶分子的取向在空间上被分为多个畴；其中反射区中液晶层的厚度和透射区中液晶层的厚度彼此不同，

其中反射区的不平坦层还用作液晶层厚度调整层，从而使反射区中液晶层的厚度和透射区中液晶层的厚度彼此不同。

2.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中液晶层由具有负介电各向异性的液晶形成。

3.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中凸起布置在透射电极的下面。

4.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中凸起布置在透射电极上。

5.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中不平坦层的高度和凸起的高度彼此不同。

6.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中不平坦层的高度高于凸起的高度。

7.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中反射区的液晶层的厚度大约是透射区的厚度的一半。

8.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中凸起具有半球形和正方锥中的一种形状。

9.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中有机膜材料由光敏有机膜形成。

10.根据权利要求1所述的液晶显示设备，其中透射电极具有对称形状彼此连接的形状。

11.一种制造根据权利要求1所述的液晶显示设备的方法，该方法包括：

在第一基板上形成由透射导电膜制成的透射电极；

在第一基板上形成光敏有机膜；

在通过使用光掩模曝光之后将光敏有机膜显影，由此分别在基板上的反射区的区域中和透射区的区域中同时形成由光敏有机膜形成的不平坦层和凸起；和

在不平坦层上形成由金属膜制成的反射电极。

12.根据权利要求11所述的制造液晶显示设备的方法，其中通过分别将不平坦层和凸起曝光不同的积累光量，将不平坦层和凸起形成为具有彼此不同的高度。

13.根据权利要求11所述的制造液晶显示设备的方法，其中光掩模的一部分包括半透明膜。

14.根据权利要求11所述的制造液晶显示设备的方法，其中对应于不平坦层的光掩模的一部分半透明膜的光透射率与对应于凸起的其另一部分的光透射率不同。

15.根据权利要求11所述的制造液晶显示设备的方法，其中光掩模的一部分包括具有图案宽度小于曝光的分辨率极限的掩模图案。

16.根据权利要求11所述的制造液晶显示设备的方法，其中，在不平坦层上形成金属膜时，在凸起上同时形成与不平坦层上的金属膜相同材料的金属膜。

17.一种制造根据权利要求1所述的液晶显示设备的方法，该方法包括：

在第一基板上形成光敏有机膜；

在通过使用光掩模曝光之后将光敏有机膜显影，由此分别在第一基板上的反射区的区域中和透射区的区域中同时形成由光敏有机膜形成的不平坦层和凸起；

在透射区上形成由透射导电膜制成的透射电极；和

在不平坦层上形成由金属膜制成反射电极。

18.根据权利要求17所述的制造液晶显示设备的方法，其中通过分别用彼此不同的估计曝光量将不平坦层和凸起曝光，来将不平坦层和凸起分别形成为具有彼此不同的高度。

19.根据权利要求17所述的制造液晶显示设备的方法，其中光掩模的一部分包括半透明膜。

20.根据权利要求17所述的制造液晶显示设备的方法，其中对应于不平坦层的光掩模的一部分半透明膜的光透射率与对应于凸起的其另一部分的光透射率彼此不同。

21.根据权利要求17所述的制造液晶显示设备的方法，其中光掩模的一部分包括具有图案宽度小于曝光的分辨率极限的掩模图案。