[发明专利]一种二次成像摄影方法及装置有效

专利信息
申请号: 200710099585.7 申请日: 2007-05-24
公开(公告)号: CN101059598A 公开(公告)日: 2007-10-24
发明(设计)人: 晏磊;李英成;段晓辉;赵世湖;丁晓波 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G03B41/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 徐宁;关畅
地址: 100871北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 二次 成像 摄影 方法 装置
【权利要求书】:

1、一种二次成像摄影方法,其包括以下步骤:

(1)设置一具有一次承影镜头、一次承影器件、二次成像镜头和二次成像器件的装置;

(2)依据一次承影镜头的物像共轭几何关系,将一次承影器件置于一次承影镜头的成像面处,将所述一次承影器件的平面与主光轴垂直,在一次承影器件的承影面呈现采集到的景物图像,图像光线透射过一次承影器件;所述一次承影器件由承影层和透射层构成,所述承影层将所述一次承影镜头的会聚光线进行再次散射而形成影像;

(3)将二次成像镜头与二次成像器件依次置于一次承影器件的后方,所述二次成像镜头与二次成像器件为分别在同一平面内设置的多个,且两平面的二次成像镜头与二次成像器件相互对应,每个二次成像镜头采集所述一次承影器件不同区域的影像,相邻区域的影像具备一定的重叠区域,不同区域的影像根据常规方法进行拼接处理成完整影像,并使一次承影器件的承影面与二次成像器件的成像面经过二次成像镜头符合物像共轭几何关系,把一次承影器件的影像成像于二次成像面上。

2、一种二次成像摄影装置,其特征在于:在一同轴光路上,依次设置一次承影镜头、一次承影器件、二次成像镜头和二次成像器件,所述一次承影器件由承影层和透射层构成,所述一次承影器件和二次成像器件依据光学原理中的物像共轭几何关系,分别设置在所述一次承影镜头和二次成像镜头的成像面上,所述二次成像镜头为在同一平面内设置的多个,所述二次成像器件的数量与所述二次成像镜头对应,也为在同一平面内设置的多个。

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