[发明专利]薄膜磁头无效

专利信息
申请号: 200710096791.2 申请日: 2007-04-12
公开(公告)号: CN101055724A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 大津孝佳 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/31 分类号: G11B5/31;G11B5/48;G11B5/60
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 李涛;钟强
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 磁头
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种安装在磁盘驱动器上的薄膜磁头,并且更具体地说,涉及一种具有浮动高度调节性能的薄膜磁头。

背景技术

磁盘驱动器包括旋转磁盘、和由悬架支撑并且定位在磁盘的径向方向上的薄膜磁头。磁头在磁盘上方相对行驶的同时,从磁盘读出和向其写入磁性数据。磁头的滑块设计成,通过空气润滑承载也就是空气楔膜效应的帮助而浮动,从而滑块不与磁盘进行直接接触。为了实现磁盘驱动器的较高记录密度,并由此增大容量和减小其尺寸,有效的是,通过减小在滑块与磁盘之间的距离即滑块的浮动高度来增大线记录密度。

滑块浮动高度的传统设计允许由加工变化、使用环境的温度差、在读与写之间的浮动高度差等导致的浮动高度减小,并且已经设有浮动高度余量,以便甚至在最坏情况下防止滑块与磁盘之间的接触。如果使用具有根据用于每个薄膜磁头的使用条件而调节浮动高度的性能的滑块,则有可能消除上述余量,并由此显著减小读/写元件的浮动高度,同时防止滑块与盘之间的接触。专利文件1提供一种滑块结构,在该滑块结构中,由薄膜电阻性元件制成的加热器提供在写元件和读元件的附近,如有需要则加热滑块的部分以便为了突出而热膨胀,从而调节在写元件和读元件与磁性记录介质之间的距离。

然而,如果提供加热器以调节浮动高度,那么在读和写元件中的线数和布置在磁头的后端面上的终端数量将增大。连接到终端的悬架上的线数也增大,因而使线之间的每个空隙变窄。这在写入期间造成从写元件线到读元件线的交扰问题。为了解决交扰问题,专利文件2公开了几种结构,在这些结构中:读元件线布置成放在悬架上的加热器线之间;并且加热器线布置在悬架上的写元件线与读元件线之间。

[专利文件1]

日本专利公开No.2004-342151

[专利文件2]

日本专利公开No.2004-192742

发明内容

薄膜磁头在其后端面上设有六个终端:两个写元件终端、两个读元件终端、一个加热器终端及一个接地终端。接地终端连接到来自滑块的接地导线(或地线)、读元件的两个电极的地线、上部和下部磁屏蔽的地线、写元件的上部和下部磁极片的地线及加热器的地线。以这种方式,由于靠近接地导线的线拥挤,所以如果外来噪声施加到滑块的接地导线上,那么交扰噪声可能出现在读元件的引导导线、电极的地线、上部和下部磁屏蔽的地线、及写元件的上部和下部磁极片的地线中。外来噪声包含由用于磁盘等的主轴电机引起的噪声。由于交扰噪声对于读元件和写元件具有不利影响,所以必须尽可能多地减小交扰噪声。

本发明的目的是,减小在薄膜磁头的接地导线与读元件的引导导线之间的交扰。

本发明的一种典型薄膜磁头包括:薄膜磁头部分,形成在滑块的尾端面上,并且具有加热器、读元件、写元件、及覆盖加热器、读元件和写元件的保护膜;共用终端,提供在靠近薄膜磁头部分的磁道横向中央部分的位置处;读元件终端、写元件终端、加热器终端及接地终端,提供在薄膜磁头部分的端面上,加热器终端和接地终端提供在读元件终端和写元件终端的两侧上;其中,读元件的地线和写元件的地线连接到共用终端上,并且共用终端的地线、滑块的地线及加热器的地线连接到接地终端上。

根据本发明,可减小在薄膜磁头的地线或接地导线与读元件的引线之间的交扰,以及可减少在薄膜磁头的接地导线与读和写元件的地线之间的交扰。

附图说明

图1是示意图,表明根据本发明实施例的一种薄膜磁头(GMR)的布线结构。

图2是示意图,表明根据本发明实施例的一种薄膜磁头(TMR)的布线结构。

图3是硬盘驱动器的平面图,薄膜磁头安装在该硬盘驱动器上。

图4是包括本发明的薄膜磁头的磁头万向支架组件的立体图。

图5是根据本发明实施例的一种薄膜磁头的外形图。

图6是沿图5的线A-A得到的横断面图,表明薄膜磁头部分的构造。

图7是示意图,通过比较例表明一种薄膜磁头(GMR)的布线结构。

图8是示意图,通过比较例表明一种薄膜磁头(TMR)的布线结构。

具体实施方式

下面参照附图将描述本发明的优选实施例。注意,类似附图标记在所有附图中指示类似或对应元件,并且为了清楚起见省略对其的重复解释。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立环球储存科技荷兰有限公司,未经日立环球储存科技荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710096791.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top