[发明专利]进气装置、低压化学气相沉积设备及化学气相沉积方法

权利要求书

1、一种进气装置，用于向炉管内通入气体，所述进气装置包括主管，至少两个与外部气路相连的分管，以及连接主管与各所述分管的连接部分，其特征在于：所述主管由炉管之内延伸至炉管之外，所述分管及连接部分均位于炉管之外。

2、如权利要求1所述的进气装置，其特征在于：所述连接部分包括三通管接头。

3、如权利要求2所述的进气装置，其特征在于：所述主管、分管与所述三通管接头间利用软管相连。

4、如权利要求1或3所述的进气装置，其特征在于：各所述分管分别与单向阀相连。

5、如权利要求1或3所述的进气装置，其特征在于：各所述分管由金属材料制成。

6、如权利要求1或3所述的进气装置，其特征在于：所述主管为石英管。

7、如权利要求1所述的进气装置，其特征在于：所述炉管具有炉管底座，在所述主管与所述炉管底座的相交处具有环形垫圈，且所述环形垫圈位于所述炉管底座的外边缘之内。

8、如权利要求1所述的进气装置，其特征在于：所述炉管具有炉管底座，且所述炉管底座内具有冷却装置。

9、如权利要求8所述的进气装置，其特征在于：在所述主管与所述炉管底座的相交处具有环形垫圈，且所述环形垫圈与所述冷却装置相邻。

10、一种低压化学气相沉积设备，包括炉管和炉管底座，所述炉管内还具有进气装置，该进气装置包括主管，至少两个与外部气路相连的分管，以及连接主管与各所述分管的连接部分，其特征在于：所述主管由炉管之内延伸至炉管之外，所述分管及连接部分均位于炉管之外。

11、如权利要求10所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：所述连接部分包括三通管接头。

12、如权利要求11所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：所述主管、分管与所述三通管接头间利用软管相连。

13、如权利要求10或12所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：各所述分管分别与单向阀相连。

14、如权利要求10或12所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：各所述分管由金属材料制成。

15、如权利要求10所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：所述主管为石英管。

16、如权利要求10所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：所述炉管底座内还具有冷却装置。

17、如权利要求16所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：在所述主管与所述炉管底座的相交处具有环形垫圈，且所述环形垫圈与所述冷却装置相邻。

18、如权利要求10所述的低压化学气相沉积设备，其特征在于：在所述主管与所述炉管底座的相交处具有环形垫圈，且所述环形垫圈位于所述炉管底座的外边缘之内。

19、一种化学气相沉积方法，其特征在于，包括步骤：

将衬底放入化学气相沉积设备的炉管内；

将各种气体在所述炉管外进行混合后再通入所述炉管内；

待薄膜生长完成后，停止所述气体的通入；

取出所述衬底。

20、如权利要求19所述的化学气相沉积方法，其特征在于，在通入各种气体的同时，还对所述炉管底座内的气体通路进行冷却。