[发明专利]聚乙二醇修饰的抗菌/中和内毒素变构肽分子、其合成方法及医学用途无效

专利信息
申请号: 200710092699.9 申请日: 2007-09-14
公开(公告)号: CN101148470A 公开(公告)日: 2008-03-26
发明(设计)人: 杨大成;范莉;徐宏;郭毅斌;刘红萍;李同金;李长兵;夏培元;顾敬松;肖光夏 申请(专利权)人: 西南大学
主分类号: C07K7/08 分类号: C07K7/08;A61K38/10;A61P31/00
代理公司: 重庆华科专利事务所 代理人: 康海燕
地址: 40071*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 聚乙二醇 修饰 抗菌 中和 内毒素 变构肽 分子 合成 方法 医学 用途
【权利要求书】:

1.聚乙二醇修饰的抗菌、中和内毒素变构肽分子,其特征在于:具有下列结构通式,Y-BNEP-Z-amPEG

其中,Y是氢或其它修饰基团,包括但不限于酰基、C1-C18烷基、芳基苄基、烯丙基;Z是各种连接基,包括但不限于-NH(CH2)nCO-(n=1-8)、-NH(CH2)nX(n=1-10,X=O,S,NH,etc),或者没有连接基;amPEG的分子量包括但不限于2000,4000,6000,12000或20000。

2.根据权利要求1中所述的聚乙二醇修饰的抗菌、中和内毒素变构肽分子,其特征在于:表现为多肽的药学上可接受的各种无机酸或有机酸的盐类。

3.根据权利要求1中所述的聚乙二醇修饰的抗菌、中和内毒素变构肽分子,其特征在于:表现为多肽的链中或端位环肽。

4.根据权利要求3所述的抗菌、抗内毒素变构肽分子,其特征在于:表现为各种多肽的链中或端位环肽的药学上可接受的各种无机酸、有机酸的盐类。

5.权利要求1-4任一项所述的聚乙二醇修饰的抗菌、中和内毒素变构肽分子用于制备治疗或预防内毒素脓毒症、脓毒性休克疾病或症状药物的用途。

6.权利要求1-4中所述的聚乙二醇修饰的抗菌、中和内毒素变构肽分子的合成方法,其特征在于包括以下步骤:

(1)、母体肽树脂合成通法

称取Fmoc-Lys(Boc)-CTC树脂或其它多肽合成氨基酸树脂倒入合成柱中,加入溶剂DCM、DMF或DCM/DMF溶胀,以10%-50%六氢吡啶的DMF溶液脱除氨基酸树脂的Fmoc保护基团,检测后抽滤至干,用DCM、MeOH、DMF、DCM、DMF依次洗涤,除尽六氢吡啶;称取抗菌/中和内毒素变构肽BNEP的氨基酸序列C端第二个氨基酸Fmoc-Lys(Boc)-OH于适宜的容器中,加入DMF溶解,然后加入偶联剂和氮甲基吗啉或二异丙基乙胺的DMF溶液;偶联完成后,除去反应液,以DCM、MeOH、DMF、DCM、DMF依次洗涤肽树脂;加入20%-50%六氢吡啶的DMF溶液脱除氨基酸树脂的Fmoc保护基团,以DCM、MeOH、DMF、DCM、DMF依次洗涤,除尽六氢吡啶;按照常规多肽固相化学合成方法,依照中国授权专利01104591.4中的BNEP9901315的氨基酸序列进行后续偶联,如此循环完成整个BNEP肽链的合成,得到母体肽树脂充分洗涤,MeOH收缩,抽干,从合成柱中取出合成的肽树脂,冻干机中冻干,备用;

(2)、氮端衍生物制备

将母体肽树脂倒入合成柱中,加入溶剂溶胀,抽干,加入20%-50%六氢吡啶的DMF溶液脱除Fmoc,洗涤后加入酰基化试剂的DMF溶液,搅拌或通氮气或振荡,控温;偶联完成后,除去反应液,以DCM、MeOH、DMF、DCM、DMF依次洗涤,抽干,从合成柱中取出合成的BNEP肽衍生物树脂,置冻干机中冻干,得

(3)、BNEP-amPEG分子的合成

选择采用以下两种方法之一:

(3.1)从自制amPEG开始的逐步合成法

(3.1.1)全保护制备通法

脱除Fmoc圆底烧瓶中加入设计量的Fmoc-AAn....AA1-amPEG,其中n=2,3...14,15-50%六氢吡啶的DCM溶液,控温搅拌30-60min;旋蒸,无水乙醚析出沉淀,抽滤,DCM-EtOH/Et2O重结晶两次,P2O5真空干燥得去Fmoc保护的AAn....AA1-amPEG,其中n=1,2,3...13;

偶联圆底烧瓶中加入的AAn....AA1-amPEG,其中n=1,2...13,2倍量的保护氨基酸Fmoc-AAx-OH,其中x=2,3...14,0.02倍量的催化剂DMAP和DCM,溶解后加入的DIC;20-40℃油浴中电磁搅拌,TLC检测反应过程;反应毕,停止反应;旋蒸,无水乙醚析出沉淀,抽滤,无水乙醚洗涤3次,DCM/Et2O或DCM-EtOH/Et2O重结晶2次,茚三酮监测,应与空白颜色相同或相似,P2O5真空干燥得全保护的肽树脂Fmoc-AAn....AA1-amPEG,其中n=2,3...14,称重计算收率;重复上述脱除Fmoc、偶联操作,实现14个氨基酸的偶联,得到全保护称重计算收率;

3.1.2)BNEP-amPEG制备

A.Fmoc-BNEP-amPEG制备 全保护1g,冰冷下加入10mL裂解试剂TFA/Thioanisole/EDT/anisole 94∶3∶2∶1,v/v,电磁搅拌2-4h,氮气吹去大部分TFA,无水乙醚沉降,离心;DCM溶样,无水乙醚沉降,离心分出固体;再重复2次,冻干,得侧链无保护Fmoc-BNEP-amPEG粗品,HPLC纯化、冻干,得纯品,用氨基酸组成分析等方法确证结构;

B.BNEP-amPEG制备将1g全保护除去Fmoc保护基后,按上述A法裂解去侧链保护,沉降、离心、重结晶后得全去保护的BNEP-amPEG粗品;该粗品以适量水溶解,乙醚沉降,离心得固体;再重复2次,得较纯品;HPLC纯化,冻干,得纯品;用氨基酸组成分析等方法确证结构;

或,(3.2)从自制的片段合成法

A.脱除树脂  计算量母体肽树脂加入三氟乙醇裂解试剂,r.t反应60-120min,过滤,DCM、THF洗涤树脂,收集滤液,减压旋蒸到没有液体蒸出;加入H2O,析出大量白色固体,加入THF溶解固体,加饱和食盐水溶液,分液,减压旋蒸THF层得白色固体,真空干燥,得除去CTC树脂的全保护

B.偶联amPEG全保护加入DMF和THF,搅拌溶解后,加入4-6倍HOBt,冰水冷却下加入4-8倍DIC;搅拌,加入含有1-4倍自制amPEG的DMF溶液;撤除水浴,室温搅拌18h后,置于25-40℃油浴搅拌反应,TLC跟踪反应进程;反应结束,转入较大的圆底烧瓶,旋蒸除去THF,冷却后加入冷冻的无水Et2O,搅拌,静置。抽滤,无水Et2O洗涤,真空干燥。上述产物加入DCM,搅拌全溶后加入冷冻无水Et2O,搅拌,抽滤,无水Et2O洗涤,真空干燥,得到全保护

C.除去Fmoc全保护加入piperidine的DMF溶液,25-40℃油浴搅拌反应,反应结束后转入较大的圆底烧瓶,加入冷冻的无水Et2O,搅拌,抽滤,无水Et2O洗涤,真空干燥;上述产物,加入EtOH,搅拌全溶后加入冷冻无水Et2O,搅拌,抽滤,无水Et2O洗涤,真空干燥,得到侧链全保护的

D.裂解去保护  侧链全保护冰冷下加入裂解试剂TFA/Thioanisole/EDT/anisole 94∶3∶2∶1,v/v,,电磁搅拌2-3h,氮气吹去大部分TFA,无水乙醚沉降,离心;DCM溶样,无水乙醚沉降,离心分出固体;再重复2次,冻干,得BNEP-amPEG粗品,HPLC纯化、冻干,得纯品。

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