[发明专利]抗蚀剂成分、形成抗蚀剂图案的方法、基板及其制造方法有效
申请号: | 200710091177.7 | 申请日: | 2007-04-12 |
公开(公告)号: | CN101063816A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 金珍郁;南姸熙 | 申请(专利权)人: | LG.菲利浦LCD株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00;G02F1/1335;H01L27/12;H01L21/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抗蚀剂 成分 形成 图案 方法 及其 制造 | ||
1.一种抗蚀剂成分,包括:
UV固化树脂和添加剂;以及
促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂;
其中所述附着力促进剂为环氧基化合物或者聚氨酯化合物其中之一;
所述UV固化树脂为选自由聚甲基丙烯酸甲酯树脂、甲基丙烯酸丁酯树脂、聚氨酯丙烯酸树脂和聚乙烯醇树脂组成的组中的至少其中之一;
所述UV固化树脂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的50wt%到80wt%以内;
所述附着力促进剂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的10wt%到20wt%以内。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述添加剂包括引发剂和耦合剂至少其中之一。
3.根据权利要求2所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述耦合剂为选自由γ-糖类丙氧基三甲基硅烷、氢硫基丙基三甲基硅烷以及甲基三甲基硅烷组成的组中的至少其中之一。
4.根据权利要求2所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述引发剂为选自由羟基酮化合物、氨基酮化合物、苯基乙醛酸化合物、酰基氧化膦化合物、苯基酮化合物组成的组中的至少其中之一。
5.一种用于形成抗蚀剂图案的方法,包括:
提供基板;
在基板上形成抗蚀剂层;
向抗蚀剂层提供具有预定图案的模具;
随着将模具粘合到抗蚀剂层上而转印该模具的图案,形成初始抗蚀剂图案;
通过硬化该初始抗蚀剂图案而形成抗蚀剂图案;以及
从抗蚀剂图案上分离模具,其中抗蚀剂层的构成成分包括用于提高基板与抗蚀剂层之间的粘合强度的附着力促进剂;
其中,所述的抗蚀剂成分包括:
UV固化树脂和添加剂;以及
促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂;
其中所述UV固化树脂为选自由聚甲基丙烯酸甲酯树脂、甲基丙烯酸丁酯树脂、聚氨酯丙烯酸树脂和聚乙烯醇树脂组成的组中的至少其中之一;所述UV固化树脂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的50wt%到80wt%以内;
所述附着力促进剂为环氧基化合物或者聚氨酯化合物其中之一;所述附着力促进剂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的10wt%到20wt%以内。
6.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在硬化所述初始抗蚀剂图案的步骤中从所述模具向抗蚀剂图案照射UV光。
7.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在所述硬化初始抗蚀剂图案的步骤和分离模具的步骤之间还包括加热抗蚀剂图案的步骤。
8.根据权利要求7所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在腔室中执行加热抗蚀剂图案的步骤。
9.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在将具有预定图案的模具提供给所述抗蚀剂层的步骤中,将其上形成有抗蚀剂层的基板设置在加热的台架上。
10.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在硬化初始抗蚀剂图案的步骤中将其上形成有初始抗蚀剂图案的基板设置在加热的台架上。
11.一种滤色片阵列基板,包括:
基板;
形成在基板上的黑矩阵和滤色片图案;以及
设置在黑矩阵和滤色片图案上方并具有凸出部分的涂敷图案,其中所述涂敷图案由包括附着力促进剂的成分形成,所述附着力促进剂用于提高黑矩阵和滤色片图案至少其中之一与所述涂敷图案之间的粘合强度;
其中,形成所述涂敷图案的成分包括:
UV固化树脂和添加剂;以及
促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂;
其中所述UV固化树脂为选自由聚甲基丙烯酸甲酯树脂、甲基丙烯酸丁酯树脂、聚氨酯丙烯酸树脂和聚乙烯醇树脂组成的组中的至少其中之一;所述UV固化树脂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的50wt%到80wt%以内;
所述附着力促进剂为环氧基化合物或者聚氨酯化合物其中之一;所述附着力促进剂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的10wt%到20wt%以内。
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