[发明专利]抗蚀剂成分、形成抗蚀剂图案的方法、基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710091177.7 申请日: 2007-04-12
公开(公告)号: CN101063816A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 金珍郁;南姸熙 申请(专利权)人: LG.菲利浦LCD株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/00;G02F1/1335;H01L27/12;H01L21/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国;梁挥
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 抗蚀剂 成分 形成 图案 方法 及其 制造
【权利要求书】:

1.一种抗蚀剂成分,包括:

UV固化树脂和添加剂;以及

促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂;

其中所述附着力促进剂为环氧基化合物或者聚氨酯化合物其中之一;

所述UV固化树脂为选自由聚甲基丙烯酸甲酯树脂、甲基丙烯酸丁酯树脂、聚氨酯丙烯酸树脂和聚乙烯醇树脂组成的组中的至少其中之一;

所述UV固化树脂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的50wt%到80wt%以内;

所述附着力促进剂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的10wt%到20wt%以内。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述添加剂包括引发剂和耦合剂至少其中之一。

3.根据权利要求2所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述耦合剂为选自由γ-糖类丙氧基三甲基硅烷、氢硫基丙基三甲基硅烷以及甲基三甲基硅烷组成的组中的至少其中之一。

4.根据权利要求2所述的抗蚀剂成分,其特征在于,所述引发剂为选自由羟基酮化合物、氨基酮化合物、苯基乙醛酸化合物、酰基氧化膦化合物、苯基酮化合物组成的组中的至少其中之一。

5.一种用于形成抗蚀剂图案的方法,包括:

提供基板;

在基板上形成抗蚀剂层;

向抗蚀剂层提供具有预定图案的模具;

随着将模具粘合到抗蚀剂层上而转印该模具的图案,形成初始抗蚀剂图案;

通过硬化该初始抗蚀剂图案而形成抗蚀剂图案;以及

从抗蚀剂图案上分离模具,其中抗蚀剂层的构成成分包括用于提高基板与抗蚀剂层之间的粘合强度的附着力促进剂;

其中,所述的抗蚀剂成分包括:

UV固化树脂和添加剂;以及

促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂;

其中所述UV固化树脂为选自由聚甲基丙烯酸甲酯树脂、甲基丙烯酸丁酯树脂、聚氨酯丙烯酸树脂和聚乙烯醇树脂组成的组中的至少其中之一;所述UV固化树脂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的50wt%到80wt%以内;

所述附着力促进剂为环氧基化合物或者聚氨酯化合物其中之一;所述附着力促进剂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的10wt%到20wt%以内。

6.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在硬化所述初始抗蚀剂图案的步骤中从所述模具向抗蚀剂图案照射UV光。

7.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在所述硬化初始抗蚀剂图案的步骤和分离模具的步骤之间还包括加热抗蚀剂图案的步骤。

8.根据权利要求7所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在腔室中执行加热抗蚀剂图案的步骤。

9.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在将具有预定图案的模具提供给所述抗蚀剂层的步骤中,将其上形成有抗蚀剂层的基板设置在加热的台架上。

10.根据权利要求5所述的形成抗蚀剂图案的方法,其特征在于,在硬化初始抗蚀剂图案的步骤中将其上形成有初始抗蚀剂图案的基板设置在加热的台架上。

11.一种滤色片阵列基板,包括:

基板;

形成在基板上的黑矩阵和滤色片图案;以及

设置在黑矩阵和滤色片图案上方并具有凸出部分的涂敷图案,其中所述涂敷图案由包括附着力促进剂的成分形成,所述附着力促进剂用于提高黑矩阵和滤色片图案至少其中之一与所述涂敷图案之间的粘合强度;

其中,形成所述涂敷图案的成分包括:

UV固化树脂和添加剂;以及

促使UV固化树脂和与该UV固化树脂接触的暴露层支架化学接合的附着力促进剂;

其中所述UV固化树脂为选自由聚甲基丙烯酸甲酯树脂、甲基丙烯酸丁酯树脂、聚氨酯丙烯酸树脂和聚乙烯醇树脂组成的组中的至少其中之一;所述UV固化树脂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的50wt%到80wt%以内;

所述附着力促进剂为环氧基化合物或者聚氨酯化合物其中之一;所述附着力促进剂的含量占全部抗蚀剂成分重量百分比的10wt%到20wt%以内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG.菲利浦LCD株式会社,未经LG.菲利浦LCD株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710091177.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top