[发明专利]静电荷显影用调色剂、使用该调色剂的显影剂、显影剂盒和成像装置有效
申请号: | 200710091087.8 | 申请日: | 2007-04-09 |
公开(公告)号: | CN101149576A | 公开(公告)日: | 2008-03-26 |
发明(设计)人: | 古木真;田民权;渡边美穗;松原崇史 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G9/087 | 分类号: | G03G9/087;G03G9/08;G03G15/08;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 静电荷 显影 调色 使用 显影剂 成像 装置 | ||
1.一种静电荷显影用调色剂,所述调色剂包含粘合剂树脂和至少一种红外线吸收剂,其中至少一种红外线吸收剂是由以下结构式(1)表示的化合物
结构式(1)。
2.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述红外线吸收剂的体均粒径小于或等于0.3μm。
3.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中红外线吸收剂的体均粒径大于或等于0.05μm且小于或等于0.2μm。
4.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述红外线吸收剂的含量大于或等于0.1质量%且小于或等于2质量%。
5.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述红外线吸收剂的含量大于或等于0.2质量%且小于或等于1质量%。
6.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述红外线吸收剂经过了酸糊处理。
7.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述粘合剂树脂的玻璃化转变点(Tg)为50℃~120℃。
8.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述调色剂包含防粘剂。
9.如权利要求8所述的静电荷显影用调色剂,其中所述防粘剂的熔点大于或等于50℃。
10.如权利要求8所述的静电荷显影用调色剂,其中相对于100重量份所述粘合剂树脂,所述防粘剂的含量为3重量份~20重量份。
11.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中相对于100重量份调色剂颗粒,所述调色剂包含0.01重量份~5重量份无机颗粒。
12.如权利要求11所述的静电荷显影用调色剂,其中所述无机颗粒的一次粒径(体均粒径)为1nm~200nm。
13.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述调色剂的体均粒径(D50V)大于或等于3μm且小于或等于10μm。
14.如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂,其中所述调色剂颗粒的形状系数SF1为110~135。
15.一种静电荷显影用显影剂,所述静电荷显影用显影剂包含如权利要求1所述的静电荷显影用调色剂和载体。
16.如权利要求15所述的静电荷显影用显影剂,其中所述载体的核的体均粒径为10μm~500μm。
17.一种静电荷显影用显影剂盒,所述显影剂盒能够安装在成像装置上并能够从所述成像装置上拆卸,并且至少容纳用于供应至设置在所述成像装置中的显影单元中的显影剂,其中所述显影剂为如权利要求15所述的静电荷显影用显影剂。
18.一种成像装置,所述成像装置至少包括:
静电潜像保持体;
用于对所述静电潜像保持体表面充电的充电单元;
用于在所述静电潜像保持体表面上形成静电潜像的静电潜像形成单元;
用于通过使用显影剂使所述静电潜像显影以形成调色剂图像的显影单元;
用于将所述调色剂图像转印到记录介质上的转印单元;
和用于定影所述记录介质上的调色剂图像的定影单元,
其中所述显影剂为如权利要求15所述的静电荷显影用显影剂。
19.一种静电荷显影用调色剂,所述静电荷显影用调色剂包含粘合剂树脂和至少一种红外线吸收剂,其中至少一种红外线吸收剂在波长大于或等于750nm且小于或等于1100nm的范围内表现出最大吸收,所述最大吸收的半峰全宽小于或等于100nm,并且由以下方程(1)表示的体均粒度分布指数GSDV小于或等于1.25:
方程(1):GSDV=(D84V/D16V)1/2
其中D84V是从小直径侧累积的调色剂粒径分布达到84%时的粒径值,D16V是从小直径侧累积的调色剂粒径分布达到16%时的粒径值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710091087.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:仓库管理控制系统和可视化仓库管理系统
- 下一篇:新型眼镜式显示器