[发明专利]一种激光加速离子的方法无效
申请号: | 200710090363.9 | 申请日: | 2007-04-06 |
公开(公告)号: | CN101282612A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 颜学庆 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H05H15/00 | 分类号: | H05H15/00 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人: | 贾晓玲 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 加速 离子 方法 | ||
1. 一种激光加速离子的方法,其步骤包括:采用圆偏振激光轰击单层靶,所述单层靶为含有待加速离子的薄膜。
2. 如权利要求1所述的激光加速离子的方法,其特征在于:所述激光的光强的范围为1018w/cm2~1022w/cm2。
3. 如权利要求1所述的激光加速离子的方法,其特征在于:所述单层靶的厚度为0.001微米~10微米。
4. 如权利要求1或3所述的激光加速离子的方法,其特征在于:所述待加速离子为氢元素,包括氘、氚同位素,所述单层靶为含有氢元素的有机薄膜。
5. 如权利要求1或3所述的激光加速离子的方法,其特征在于:所述待加速离子为碳元素,所述单层靶为碳元素薄膜。
6. 如权利要求1或3所述的激光加速离子的方法,其特征在于:所述待加速离子为金属元素,所述单层靶为与待加速离子相应的金属薄膜。
7. 如权利要求1所述的激光加速离子的方法,其特征在于:所述单层靶放置在真空当中。
8. 一种激光加速离子的方法,其步骤包括:采用圆偏振激光轰击喷嘴喷射出的含待加速离子的气体,所述气体密度大于临界密度nr=1*1021个/cm3。
9. 如权利要求8所述的激光加速离子的方法,其特征在于:所述气体的归一化密度ne/nr>1。
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