[发明专利]相对密闭的等离子体处理纺织面料系统无效

专利信息
申请号: 200710090032.5 申请日: 2007-03-26
公开(公告)号: CN101275360A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: 王守国 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院;王守国
主分类号: D06M10/02 分类号: D06M10/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 相对 密闭 等离子体 处理 纺织 面料 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,尤指一种等离子体处理室是在一个相对密闭的不锈钢壳体内,其壳体内是充有氩气并有少量任意反应气体的,壳体上密闭板面上设有同一个面料进、出口的,其壳体内由多组能实现自传的放电电极组和导向轮构成的高频等离子体放电面料处理系统。

背景技术

等离子体技术应用在纺织领域是在近年人们十分关注的新技术,过去人们采用真空等离子体对各种纺织面料进行了放电处理,实验证明,经过等离子体处理后,在替代传统的退浆工艺,提高色牢度和改变手感方面都取得了很好的实验结果。但是,由于真空等离子体器壁限制,使其无法实现连续生产,设备运行费用也很高。在空气中进行的介质阻挡放电过去一般是采用硅橡胶包覆的金属管,采用硅橡胶介质与玻璃或陶瓷介质比较,电极之间需要的击穿电压较高,放电时所形成的局部电弧丝较粗,放电不均匀;另外,过去在常压下进行的介质阻挡放电,一般是在空气中进行的,放电时无法控制电极之间空气的组分,放电所产生的局部微电弧电流也比较大,在纺织面料通过时,容易产生局部烧蚀,从而影响了处理面料的效果。此外,地电极一般是采用带有齿状的铝合金金属,由于它与硅胶轮之间的缝隙比较小,当两块面料的连接处通过放电间隙时容易发生阻塞。

发明内容

本发明的目的在于提供一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,尤指在一个相对密闭的多组金属管电极分别用玻璃管或陶瓷管包覆的、在放电进行时地电极自身可以转动的,放电是在以氩气为主的气体氛围中进行的装置。

本发明提供一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,包括一个电源组,一个电机马达组,一个等离子体放电处理室,进气系统,摆布机和进布机等,其等离子体放电室是由不锈钢制成的一个相对密闭壳体,在壳体的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在壳体的底面密闭板上设有进气孔,在壳体内充入氩气和少量任意反应气体,在壳体内由多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极,称为高压电极;以及在高压电极一侧的,与高压电极管平行的电极,称为地电极,高压电极和地电极分别与高频电源连接,纺织面料由摆布机带动,并通过进布机进入到等离子体处理室。

所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:系统所采用的电源频率选择范围为:1-100KHz,放电电压范围为:4-15KV,放电室是在常压下,无需抽真空。

所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:等离子体放电室是由不锈钢制成的一个长方密闭壳体,在壳体的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在壳体的底面密闭板上设有气体进气孔,该进气孔连接氩气气源和反应气体,如:氧气,氨气,氮气或SF6等。

所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室内设有,被称为高压电极的多组被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极,以及在高压电极一侧的多组地电极,该高压电极和地电极分别与高频电源连接,该高压电极的两端分别通过轴承固定在壳体支架上;该地电极的两端分别连接弹簧,并通过弹簧连接一个由马达带动的轴承上,该轴承固定在壳体支架上,连接在一起的轴承、弹簧和地电极由马达带动形成自转。

所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室壳体内设有面料导向轴。

所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室的上密闭板上设有同一个进布和出布口,在该口的两侧设有面料传递辊轴,在其上方设有一个排气罩。

所述的一种相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其特征在于:在等离子体放电室的一侧设有摆布机,另一侧设有进布机,面料是由摆布机带动,通过进布机展平后,进入到等离子体放电处理室处理。

本发明相对密闭的等离子体处理纺织面料系统,其优点是:1、高压电极管被分别用玻璃管或陶瓷管包覆,采用该两种介质可以较好的减少放电击穿电压。2、等离子体放电室内充有以氩气为主并有少量反应气体,使放电时的气体成分能很好控制。3、在放电进行时,电极本身分别被马达和面料带动自转,这避免了电极局部受热不均匀。4、由于在地电极的两端采用弹簧连接,当两个面料的连接处通过电极之间的缝隙时,不会阻塞。

本发明是在大气压下产生低温均匀等离子体放电室,主要用途是:对穿过该放电室的各种面料的表面得到等离子体的放电处理,替代传统印染行业的精炼退浆工艺,提高色牢度和改善面料的手感。

附图说明

图1为本发明实施例相对密闭的等离子体处理纺织面料系统侧面刨示结构示意图;

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