[发明专利]晶体半导体薄膜,半导体器件及其制造方法有效
申请号: | 200710088158.9 | 申请日: | 2007-03-20 |
公开(公告)号: | CN101043026A | 公开(公告)日: | 2007-09-26 |
发明(设计)人: | 森若智昭 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L23/00 | 分类号: | H01L23/00;H01L29/04;H01L31/036;H01L21/20;H01L21/268;H01L31/20 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 秦晨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体 半导体 薄膜 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【说明书】:
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