[发明专利]酸性水及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及酸性水，特别是在杀菌、半导体制造工序中可用作洗涤、反应材料等的酸性水。

背景技术

对水赋予特定的功能而得到的水也被称为功能水，被用于半导体装置的制造工序等中。例如，含有氢的氢水可用于除去微粒，而含有二氧化碳的碳酸水可用于防静电。

或者，过氧化氢水、含有臭氧的臭氧水在半导体装置的制造工序中被用于除去有机物、半导体晶片的洗涤等。

另外，已知通过在具有隔膜的电解槽中电解含少量盐类的水，来制造显示酸性的酸性水和显示碱性的碱性水。

但是，在臭氧水的情况下，使用后的臭氧水中所含的臭氧会分解，必须使其不会对人体或周围环境产生不良影响。可获得大的作用的高浓度过氧化氢水是危险品，操作需要小心。

另外，在对添加了各种盐作为电解质的水进行电解而获得的酸性水中，由于含有来源于所添加的盐的物质，因此用所得到的酸性水进行处理后，必须用超纯水等进行洗涤，以除去所含有的物质。

因此，JP-A-10-286571中提出了以下方案，即，通过在阳离子交换膜的两面分别粘接了阳极和阴极的固体电解质型电解槽中，使用不含电解质的超纯水进行电解，来提供酸性水、碱性水。

但是，所获得的酸性水的酸度不足，使用目的有限，在用于酸度高的用途时，还需要进一步添加酸。

本发明的课题是提供酸性水，即提供酸度高、具有更强的反应性和杀菌性，且基本上不含有其它电解质等的酸性水。

发明内容

本发明的课题可通过酸性水进行解决，该酸性水中含有负电荷氧原子且酸度高于pH5。

上述酸性水，其仅以氧原子、负电荷氧原子、氢原子作为构成单元。

上述酸性水，其是杀菌用水，含有负电荷氧原子且酸度高于pH5。

氮化硅膜的溶解水，在该氮化硅膜溶解水中，含有负电荷氧原子且酸度高于pH5。

酸性水的制造方法，其中将包合有活性氧的复合氧化物加热，并使所生成的负电荷氧原子与水接触，或用不与水反应的气体输送含有负电荷氧原子的气体，使其与水接触，从而制造酸度高于pH5的水。

附图说明

将参照附图对本发明进行说明，其中相同的编号指示相同的元件。

图1是本发明的酸性水制造方法的一个例子的说明图。

图2是用电子自旋共振装置测定本发明的酸性水得到的测定结果的说明图。

具体实施方式

本发明发现，通过使含有负电荷氧原子的气体与水接触，可以得到酸度提高的水，即酸性水。

本申请人在WO2003/050037、JP-A-2005-1908、JP-A-2006-6670等中提出了利用含有负电荷氧原子的气体所具有的氧化作用、杀菌作用等的方案。

在这些发明中提出了以下方案，即通过在复合氧化物烧结体面上设置电极并施加电压，或进行加热，使之产生负电荷氧原子，使用稀有气体等输送生成的负电荷氧原子，用于对象物的氧化或杀菌等目的。

但是，通过使含有负电荷氧原子的气体与水接触来获得酸度大的酸性水是完全不能预期的。

另外，虽然通过使含有负电荷氧原子的气体与水接触可获得酸度大的酸性水的原因还未确定，但所得到的酸性水含有负电荷氧原子，具有强的杀菌作用，另外反应性强，是极其有用的。

本发明的酸性水具有强的杀菌作用、或除去氮化硅膜的作用等特殊作用。

本发明的酸性水可以通过使含有负电荷氧原子的气体与水接触来制造，因此可以制造仅含有氧原子、负电荷氧原子、氢原子的酸性水。因此，所得到的水具有以下特征，即如果不考虑其作用，则与通常的水相比没有变化，处理容易。

另外，在本发明中，仅含有氧原子、氢原子、负电荷氧原子是指在用纯水作为原料、通过本发明的方法制造的酸性水中，仅以构成水的原子的氧原子、氢原子、负电荷氧原子作为构成单元，含有微量来源于原料的不可避免的杂质。

例如，在采用食品工业中使用的清洁水作为原料的情况下，用本发明的酸性水作为杀菌、洗涤水进行处理时，由于不含有其它杀菌或洗涤用试剂等，因此具有可以简化或省去处理后的洗涤工序的特征。

另外，采用半导体装置的制造工序中使用的超纯水作为原料制造的酸性水同时具有超纯水的洗涤效果和酸性水的洗涤效果，在半导体装置的制造工序中非常有用。

虽然在以上说明中仅描述了以水为原料制造的酸性水的特性，但是根据其使用目的，可以在得到的酸性水中添加表面活性剂、螯合剂等各种试剂，提高洗涤能力等。