[发明专利]具有反射式相位光栅的标尺有效

专利信息
申请号: 200710079749.X 申请日: 2007-03-07
公开(公告)号: CN101086453A 公开(公告)日: 2007-12-12
发明(设计)人: 格奥尔格·弗拉特舍尔 申请(专利权)人: 约翰尼斯海登海恩博士股份有限公司
主分类号: G01D5/38 分类号: G01D5/38;G02B5/18
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;吴贵明
地址: 德国特劳*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 具有 反射 相位 光栅 标尺
【权利要求书】:

1.一种用于干涉式位置测量系统的标尺,所述标尺具有反射式相位光栅,所述相位光栅具有在反射层堆叠(3)中交替的高折射层(6,7)和低折射层(5a,5b),其中所述反射层堆叠设置于基底(2)上,其特征在于,所述高折射层(6,7)由硅构成,所述低折射层(5a,5b)由二氧化硅构成;将远离所述基底的所述层堆叠(3)的最上层的高折射层(7)结构化;将所述最上层(7)这样结构化,使得暴露出位于其下的所述低折射层(5b);所述最上层(7)具有在测量方向(M)上的周期性的光栅结构。

2.根据权利要求1所述的标尺,其特征在于,所述层堆叠(3)的被结构化的最上层(7)由硅构成。

3.根据权利要求1所述的标尺,其特征在于,所述相位光栅的相位调制作用以所述最上层(7)的结构化为基础。

4.根据权利要求1所述的标尺,其特征在于,面向所述基底(2)的所述层堆叠(3)的底层(4)是镍铬层。

5.根据权利要求4所述的标尺,其特征在于,所述底层(4)是NiCr80/20层。

6.根据权利要求1所述的标尺,其特征在于,从所述基底(2)开始,所述层堆叠(3)具有未结构化的金属底层(4)、第一个未结构化的低折射层(5a)、未结构化的高折射层(6)、第二个未结构化的低折射层(5b)、以及结构化的高折射层(7)。

7.根据权利要求6所述的标尺,其特征在于,所述未结构化的金属底层(4)具有100nm的厚度,所述第一个未结构化的低折射层(5a)具有157nm的厚度,所述未结构化的高折射层(6)具有45nm的厚度,所述第二个未结构化的低折射层(5b)具有95nm的厚度,以及所述结构化的高折射层(7)具有17nm的厚度。

8.根据权利要求1所述的标尺,其特征在于,所述层堆叠(3)中的层厚度这样地选择,使得用于扫描所述标尺(1)的入射光线优选衍射到第一衍射级中。

9.根据权利要求1所述的标尺,其特征在于,所述基底(2)由热膨胀系数的数值小于0.05ppm/K的材料构成。

10.根据权利要求9所述的标尺,其特征在于,所述基底由Zerodur材料构成。

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