[发明专利]光阻剂有效

专利信息
申请号: 200710079606.9 申请日: 2007-02-26
公开(公告)号: CN101256361A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 郭光埌;邱贞文;温世豪;陈健龙;赖育成 申请(专利权)人: 新应材股份有限公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/028;G03F7/004
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 代理人: 周春发
地址: 台湾省桃园县*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光阻剂
【说明书】:

技术领域

本发明有关一种光阻剂,藉以获致一种有效提升显影后残膜率及成膜后热稳定性。

背景技术

为制造液晶显示器(LCD)电路或半导体集成电路内所用的微小电路图案,在基板上的一绝缘体层或导电金属层上均匀覆盖或涂敷一种包括聚合物树脂,感光化合物与溶剂的光阻组合物,覆盖或涂敷的基板经温焙以蒸发溶剂,温焙过的基板选择地曝露于某些型式的辐射如紫外线,电子或X-射线,随后基板经显影产生所预期图案,显影的基板再以蚀刻脱除绝缘体层或导电金属层,并移去余留的光阻剂层以完成微小图案移转于基板表面上。

光阻剂在曝光(UV光)后会分解的称为“正型光阻”,反之,曝光后会硬化聚合的则是“负型光阻”,彩色光阻剂为负型光阻剂的一种,与一般光阻材料(如IC光阻材料)最大不同之处在于彩色光阻剂添加了颜料的成分,也是形成色相的来源,亦为LCD平面显示器彩色化的关键材料;又,负型光阻微影制程主要包括有:(1)基板洗净(Substrate Clean)=>(2)涂布(Coating)=>(3)减压干燥(Vacuum Dry)=>(4)软烤(pre-baking)=>(5)曝光(exposure)=>(6)显影(Developing)=>(7)硬烤(Post-baking)等步骤。彩色光阻剂技术上的差异,除了可从涂布特性及光阻与基板附着性两方面来考量之外,亦必须能够符合高分辨率领域的需求。

在既有的习知技术领域当中,美国US 5847015号专利文献、US 5232634号专利文献、US6432614号专利文献、US6348298号专利文献虽已揭露有不同成分的彩色光剂(负型光阻剂);又,彩色光阻的特性:显影后残膜率及成膜后热稳定性等特性将直接影响彩色滤光片的品质以及产能;由于一般混合物并无法轻易的由单一成分的结构预知所应具备的性质,因此上述已知的各种负型光阻剂虽然仅有些微成份的改变,却能产生截然不同的性质,也都具有特定的适用领域;因此如何针对实际的用途需求,针对彩色光阻的相关特性加以改良必需经过不断的逐渐变易具有近似性质的成份结构,探索可能具有所需求特性的结构,进而确定各成份的性质是否能够使最终彩色光阻符合实际的用途需求。

发明内容

有鉴于此,本发明旨在提供一种可获致良好显影后残膜率及成膜后热稳定性负型光阻剂。

于实施时,负型光阻剂的主要成分为:含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂(Resin)、颜料(Pigment)、感光起始剂(Photoinitiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent),以及添加剂(Additives);其中,含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂、感光起始剂、单体及溶剂为光阻剂的必要组合,而颜料及添加剂则依实际用途调配,可掺入或不掺入光阻剂配方中。含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂至少包含不饱合乙烯基或甲基乙烯基,及由主单体、次单体所聚合而成。其中,主单体可为甲基丙烯酸环己酯(Cyclohexylmethacrylate)、丙烯酸环己酯(Cyclohexyl acrylate)、甲基丙烯酸异波罗洲酯(Isobornyl methacrylate)、丙烯酸异波罗洲酯(Isobornyl acrylate)中任一种或以上主单体的组合;次单体可为压克力单体,例如:甲基丙烯酸甲酯(Methyl methacrylate)、甲基丙烯酸(Methacrylic acid)、丙烯酸甲酯(Methyl acrylate)、丙烯酸(Acrylic acid)、甲基丙烯酸苯甲酯(Benzylmethacrylate)、甲基丙烯酸丁酯(Butyl methacrylate)、丙烯酸辛酯(Octylacrylate)等中任一种,或以上次单体的组合。待主单体与次单体聚合后,再行导入不饱合乙烯基或甲基乙烯基而完成该含有不饱合乙烯基或甲基乙烯基的高分子树脂。

具体实施方式

为能使贵审查委员清楚本发明的主要技术内容,以及实施方式,兹说明如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新应材股份有限公司,未经新应材股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710079606.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top