[发明专利]高折射指数和高抗冲聚硫氨酯/脲材料、其制造方法及在光学领域中的用途有效
| 申请号： | 200710079150.6 | 申请日： | 2002-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101016382A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | A·B·A·雅卢利;J·O·奥博多;Y·Y·图尔沙尼;P·江;F·O·阿迪勒;S·韦伯 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | C08G75/02 | 分类号： | C08G75/02;C08G75/04;C08G75/14;G02B1/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 折射 指数和 高抗冲聚硫氨酯 材料 制造 方法 光学 领域 中的 用途 | ||
【权利要求书】：
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