[发明专利]一种具有静电防护结构的集成电路有效

专利信息
申请号: 200710064597.6 申请日: 2007-03-21
公开(公告)号: CN101272050A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 杨海钢;孙嘉斌 申请(专利权)人: 中国科学院电子学研究所
主分类号: H02H9/00 分类号: H02H9/00;H01L23/60
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 静电 防护 结构 集成电路
【说明书】:

技术领域

发明属于集成电路技术领域,涉及集成电路的静电防护。

背景技术

静电放电(Electrostatic Discharge,ESD)是造成集成电路失效的一个主要原因。芯片在制造、生产、组装、测试、运输过程中,往往由于种种外界原因,静电会积累在人体、仪器、芯片内部,人们在无意中,使带电体与芯片管脚相互接触,形成了放电回路。如果芯片内部没有有效的静电放电保护电路,放电瞬间产生的巨大电流会轻易的将芯片永久性烧毁。所以在芯片设计过程中,设计者一般在芯片内部都会设计专门ESD保护电路。ESD保护电路为静电放电瞬间产生的巨大电流提供了专门的泄放通路,以避免电流流入芯片内部造成损坏。

表1.集成电路ESD防护规格

人体放电模式机器放电模式元件充电模式    Ok    2000v    200v    1000v    Safe    4000v    400v    1500v    Super    10000v    1000v    2000v

集成电路ESD防护规格如表1所示。随着CMOS工艺特征尺寸的不断缩小和先进工艺的使用,例如更薄的栅氧层,更短的沟道长度,更浅的源极和漏极深度,LDD结构和silicided结构,使得集成电路中的晶体管对于高电压和大电流的承受能力不断降低,但是外界环境产生的静电并未减少,CMOS集成电路对静电防护的规格也没有变化,例如:0.18μm CMOS工艺下的晶体管栅氧层的厚度只有4nm左右,只能承受10V左右的静态电压。所以,在先进成熟的深亚微米COMS工艺下,更需要芯片具有可靠的静电放电保护电路。

传统的ESD防护设计中,静电防护器件一般是设计在I/O焊盘(I/O PAD),与VDD电源轨线和VSS电源轨线之间。这种简单的ESD防护设计,往往使得ESD对芯片造成的意外损害发生在芯片内部,而不是发生在I/O焊盘(I/O PAD)附近。同时,在先前的文献中,针对可编程逻辑器件中大量使用的双向输入/输出端口,并没有提及到与之相关的ESD保护电路。在芯片的使用中,以及ESD测试过程中,焊盘(PAD)附近的晶体管并没有被ESD所损坏,反而芯片内部电路会由于静电放电而异常烧毁。

如图1传统的芯片ESD保护电路原理图所示,包括:接地端VSS5、接地端VSSPAD、输入端口INPAD2、NMOS管N7、PMOS管P7、电阻R4、内核逻辑电路CORE1、NMOS管N8、PMOS管P8、输入端口INPAD2,其中:

1.接地端VSS5接地,输入端口INPAD2引脚施加正的静电放电电压,对接地端VSS5放电,其余引脚悬空。此时,静电放电电压将NMOS管N7反相击穿,将静电电流泄放到接地端VSS5。

输入端口INPAD2引脚施加负的静电放电电压,对接地端VSS5接地,其余引脚悬空。此时,静电放电电压将NMOS管N7正向导通,静电电流被泄放到接地端VSS5。

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