[发明专利]一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法

权利要求书

1.一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，其特征在于，包括：

A、将当前等离子刻蚀工艺过程的数据样本代入设定的工艺函数方程得出等离子刻蚀工艺过程的工艺灵敏度指标；

B、根据当前的等离子刻蚀工艺过程的工艺灵敏度指标确定是否结束等离子刻蚀工艺过程。

2.根据权利要求1所述的等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，其特征在于，所述的工艺函数方程是将初始数据样本的主元模型方程代入设定的主元回归方程得出的。

3.根据权利要求2所述的等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，其特征在于，所述的设定的主元回归方程为：

Y＝a₁×f₁+a₂×f₂+…+a_e×f_e

式中，

Y，工艺的目标变量，输出工艺性能指标，包括刻蚀速率或均匀性；

a₁，a₂，+…+，a_e，方程的回归系数；

f₁，f₂，…，f_e，主元模型方程中的主元取值；

e，方程的主元个数。

4.根据权利要求3所述的等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，其特征在于，所述的主元回归方程中的回归系数a₁，a₂，+…+，a_e依据等离子刻蚀工艺过程的历史数据样本通过多元线性回归的方法来确定。

5.根据权利要求2或3所述的等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，其特征在于，所述的主元模型方程为，

f1=xT×p1f2=xT×p2...fe=xT×pe]]>

式中，

f₁，f₂，…，f_e，方程的主元取值；依据等离子刻蚀工艺过程的历史数据样本确定；

x＝[x₁，x₂，…，x_m]^T。其中，x₁，x₂，…，x_m是工艺的过程变量；

p₁，p₂，…，p_m；初始样本数据相关性矩阵X_n×m的特征向量p₁，p₂，…，p_m；且，X_n×m为从等离子刻蚀工艺过程的历史数据样本选取初始样本数据建立的初始样本数据相关性矩阵。

6.根据权利要求3所述的等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，其特征在于，所述的主元回归方程中的主元个数的确定原则是新主元变量所覆盖的信息必须要达到原变量的85％以上。