[发明专利]用于膜组件的曝气装置有效

专利信息
申请号: 200710058716.7 申请日: 2007-08-10
公开(公告)号: CN101139133A 公开(公告)日: 2008-03-12
发明(设计)人: 苗蕾;于鸿来;安强;王海涛;吴静宇;王龙兴 申请(专利权)人: 天津膜天膜科技有限公司
主分类号: C02F3/12 分类号: C02F3/12
代理公司: 天津市三利专利商标代理有限公司 代理人: 肖莉丽
地址: 300457天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 用于 组件 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及水处理领域,更具体的说,是涉及一种用于中空纤维膜组件中的曝气装置。

背景技术

中空纤维膜组件现在已广泛的应用于各种工业生产过程的膜过滤处理中,如洗涤半导体的超纯水,石化废水的处理以及海水淡化等,在以上这些领域,大多采用了柱式或帘式外压中空纤维膜组件,目前在上述外压膜组件中,普遍采用了气体擦洗方法来清除膜污染,不同厂家使用了不同的曝气方式。在上述膜组件中,大多在组件底部开孔,气体通过分布在组件端面的气孔进入组件内部形成曝气。其缺点在于:

1.气体直接从端面进入组件内部,曝气均匀程度差,曝气效果不好,影响膜的清洗效果。

2.由于制造工艺的限制,端面气孔较大,曝气时用气量大,能耗高。

3.大量气体从底部进入,对膜丝根部冲击较大,易造成膜丝断裂及疲劳损伤,降低组件使用寿命。

4.无法进行双端产水,膜丝利用率降低。

5.制造工艺复杂,易形成产品缺陷。

发明内容

本发明是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种用于膜组件中使气体在组件内部形成稳定的气流,膜清洗的效果好,并能延长膜丝使用寿命且能进行双端产水的曝气装置。

本发明通过下述技术方案实现:

一种用于膜组件的曝气装置,其特征在于,包括曝气本体,所述曝气本体内设置有集气室,所述曝气本体外侧连接有多个与集气室连通的封闭气室,每个气室上设置有多个曝气孔。

所述曝气本体上部设置有集水室,在集水室内设置有多个出水孔,在曝气本体下端设置有多个进水孔,所述曝气本体上设置有连通进水孔与出水孔的水道。

所述集气室的下部与带有气体通道的曝气柱密封连接。

所述曝气本体为一空心柱状体。

本发明具有下述技术效果:

1.气体通过曝气装置进入组件内部,形成连续稳定的气流,使膜丝上下曝气均匀,清除污染效果好。保证组件连续稳定使用。

2.气体上下分布均匀,膜丝上下受力一致,延长了膜丝使用寿命。

3.由于曝气效果较好,因此可以降低用气量,能耗降低。

4.曝气装置内设产水通道,可以实现膜组件双端产水,提高了膜丝利用率。

5.可采用模具注塑成型,简化了生产工艺,避免了工艺复杂带来的产品缺陷。

附图说明

图1为本发明曝气装置的立体图;

图2为图1倒置的示意图;

图3为曝气本体的示意图;

图4为图3倒置的示意图;

图5为曝气装置用于膜组件中的示意图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明详细说明。

本发明的曝气装置的示意图如图1-图5所示,包括曝气本体2,所述曝气本体2内设置有集气室4,曝气本体2外侧连接有多个通过曝气本体上的气孔8与集气室连通的封闭气室1,每个气室上设置有多个曝气孔3。气室数量一般为2-20片,曝气孔的数量可在1-1000之间选择。为了简化制造工艺,曝气本体可为一空心柱状体,空心部分上端封闭作为集气室。集气室的下部与带有气体通道13的曝气柱11通过密封圈9密封连接。

为了满足双端产水的需要,曝气本体还兼做产水的通道。为了使曝气和产水互不干扰,在曝气本体2上部设置有集水室6,在集水室内设置有多个出水孔7,在曝气本体下端设置有多个进水孔5,曝气本体上设置有连通进水孔与出水孔的水道12。

该装置可采用塑料或金属制成,金属优选不锈钢,塑料可采用ABS、UPVC、PC、PET、有机玻璃等材料,优选ABS或UPVC等。

使用时,曝气本体的下端与膜组件浇注树脂1 4的端面形成同一平面,气室分布在膜丝之间,曝气柱与端盖15上的进气孔16密封。集水管10与集水室连通。气体通过曝气柱11内的气体通道13进入集气室4,从而通过气孔8进入气室1,再通过曝气孔3进入膜组件内部。由于曝气孔数量多,分布均匀,从而使进入膜组件内的气体上下分布均匀,形成连续稳定的气流,使膜丝上下曝气均匀,清除污染效果好,保证组件连续稳定使用。而且,膜丝上下受力一致,延长了膜丝使用寿命。

当需要双端产水时,过滤水进入浇注端面14与端盖15之间,在压力作用下进入曝气本体下部的进水孔5,通过曝气本体上的水道12、出水孔7进入集水室,然后通过集水管10从膜组件另一端流出,实现双端产水单端出水。

尽管参照实施例对所公开的涉及一种用于膜组件的曝气装置进行了特别描述,以上描述的实施例是说明性的而不是限制性的,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,所有的变化和修改都在本发明的范围之内。

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