[发明专利]ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710057597.3 申请日: 2007-06-12
公开(公告)号: CN101093863A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 施成营;孙云;何青;李凤岩;赵久成 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/02;H01L31/18
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 代理人: 廖晓荣
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: zno 绝缘 杂质 阻挡 薄膜 太阳电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其包括轻质柔性衬底、ZnO电绝缘层和杂质阻挡层、背电极、吸收层、窗口层和前电极,其特征在于所述轻质柔性衬底是:金属材料衬底或聚合物材料衬底;衬底和背电极之间为0.8~4.0μm的ZnO电绝缘层与杂质阻挡层。

2、根据权利要求1所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其特征在于所述金属材料衬底是不锈钢箔、Mo箔、Cu铜箔、Al箔或Ti箔。

3、根据权利要求1或2所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其特征在于所述聚合物材料衬底是聚酰亚胺薄膜。

4、根据权利要求1所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其特征在于所述吸收层是:CIGS、碲化镉、非晶硅、砷化镓、硫化镉或染料TiO2光伏材料。

5、根据权利要求1、2或4所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其特征在于所述ZnO电绝缘与杂质阻挡层是掺杂ZnO薄膜或本征ZnO薄膜。

6、根据权利要求1、2或4所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其特征在于所述ZnO电绝缘与杂质阻挡层是掺杂ZnO薄膜或本征ZnO薄膜与Al2O3、SiO2共沉积或分层沉积的薄膜;共沉积时三种金属氧化物以任意的比例混合,分层沉积时三种金属氧化物的厚度分别为0.2μm~3μm。

7、根据权利要求5所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其特征在于所述轻质柔性衬底是金属材料衬底,吸收层是:CIGS、碲化镉、非晶硅、砷化镓、硫化镉或染料TiO2光伏材料,本征ZnO薄膜作为电绝缘阻挡层,厚度为0.8~4.0μm。

8、根据权利要求5所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池,其特征在于所述轻质柔性衬底是聚合物材料衬底,吸收层是:CIGS、碲化镉、非晶硅、砷化镓、硫化镉或染料TiO2光伏材料,掺杂或本征ZnO薄膜做为杂质阻挡层,厚度为0.8~2.0μm。

9、一种根据权利要求1所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于所述ZnO电绝缘与杂质阻挡层用蒸发、溅射、溶胶凝胶法或化学气相沉积法沉积在轻质柔性衬底上,然后再在ZnO电绝缘与杂质阻挡层上沉积背电极、吸收层、窗口层和前电极,得到ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池。

10、根据权利要求9所述的ZnO为电绝缘与杂质阻挡层的薄膜太阳电池的制备方法,其特征在于所述ZnO电绝缘与杂质阻挡层制备工艺是:在轻质柔性衬底上直流磁控溅射沉积ZnO电绝缘与杂质阻挡层,采用纯锌靶或者ZnO陶瓷靶,调整氧气和氩气的流量比为1∶2,沉积时间为2~4小时。

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