[发明专利]一种新型偶联剂及其制备方法和应用无效
申请号: | 200710055625.8 | 申请日: | 2007-05-14 |
公开(公告)号: | CN101307071A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 霍世强 | 申请(专利权)人: | 吉林市科尔有机硅有限责任公司 |
主分类号: | C07F7/28 | 分类号: | C07F7/28 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 132013吉林省吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 偶联剂 及其 制备 方法 应用 | ||
技术领域
本发明属于新型材料及制备方法和应用,具体说涉及一种用于对纳米SiO2表面进行改性的新型偶联剂及制备方法和应用。
背景技术
纳米SiO2表面改性技术,现有方法是用六甲基二硅氮烷和乙烯基三乙氧基硅烷处理纳米SiO2表面改性,所有的硅烷偶联剂的化学分子式分别为:(CH3)3SINHSI(CH3)3和CH2=CHSI(OC2H5)3,用纳米SiO2做补强填料生产出的硅橡胶、汽车腻子、油墨、颜料新材料领域,
目前,对纳米SiO2表面进行改性,以降低比表面张力,还能和SiO2表面羟基反应形成呃烷键,SiO2经过处理改性后,更接近单分子层,处理过后的填料必须在干燥后才能与聚合物分散混合。从而改变了无机材料的亲水性,降低纳米SiO2比表面积张力,使纳米SiO2变为亲有机性。从而提高了无机与有机聚合物的相容性,并且起到增强改性的效果,在耐热性和尺寸稳定性得以提高。
现有技术以(CH3)3SINHSI(CH3)3或CH2=CHSI(OC2H5)3为原料,不能形成单分子层,热稳定性差,分子链段较短,降低聚合物粘度不明显,材料强度增加不理想等。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的不足,提供一种用于对纳米SiO2表面进行改性的新型偶联剂及制备方法和应用。通过用偶联剂对纳米SiO2表面进行改性,以纳米SiO2做补强填料生产的硅橡胶、汽车腻子、油墨、颜料等新材料,其产品技术性能指标均得到明显提高。
本发明的目的是通过如下的技术方案来实现的;
一种新型偶联剂,其特征在于它是如下原料烷基叔胺R-N(Me)2和三甲氧基β氯丙基钛烷(MeO)3TiCH2CH2CH2Cl组成,原料的摩尔比为1∶1,产品季胺盐钛烷的化学式为:
R-N(CH3)2CH2CH2CH2Ti(OCH3)3Cl
式中:R为C20~C24;Me为甲基。
一种新型偶联剂的制备方法,其特征在于将原料烷基叔胺R-N(Me)2和三乙甲基β氯丙基钛烷(MeO)3TiCH2CH2H2Cl搅拌下加入高压釜中,原料的摩尔比为1∶1,加热升温至140~150℃,控制釜内压力为6MPa,搅拌速度为180转/分钟,其化学反应方程式如下:
R-N(Me)2+(MeO)3TiCH2CH2CH2Cl=R-N(CH3)2CH2CH2CH2Ti(OCH3)3Cl
式中产品季胺盐钛烷的R为C20~C24;Me为甲基。
上述的新型偶联剂季胺盐钛烷R-N(CH3)2CH2CH2CH2Ti(OCH3)3Cl化合物用于对SiO2表面改性的应用:
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