[发明专利]室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜及其制备方法无效
申请号: | 200710052544.2 | 申请日: | 2007-06-25 |
公开(公告)号: | CN101096594A | 公开(公告)日: | 2008-01-02 |
发明(设计)人: | 杨艳芹;李颂战;王水兵;刘丰;祁玉兰 | 申请(专利权)人: | 武汉科技学院 |
主分类号: | C09K11/54 | 分类号: | C09K11/54;C23C14/34;C23C14/08 |
代理公司: | 武汉天力专利事务所 | 代理人: | 程祥;冯卫平 |
地址: | 430073湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 室温 发射 光和 紫光 氧化锌 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜的制备方法,其特征在于:采用射频磁控溅射法,以溅射仪为沉积设备,以纯度≥99.0%的ZnO粉末为原料制作的ZnO陶瓷靶材作为阴极溅射靶材;对溅射仪抽真空使本底真空度达1.0×10-4~1.0×10-5Pa;然后向溅射仪中通入氩气和氧气,使溅射气压为2.7Pa,调节靶基距为40~70mm;利用溅射气体氩气放电产生等离子体轰击ZnO陶瓷靶材,产生的溅射粒子在电磁场作用下沉积在衬底基片上形成ZnO薄膜;对ZnO薄膜在气氛环境中经退火处理,得到具有室温下发射蓝光和紫光的氧化锌薄膜;所用氩气和氧气是99.99%的高纯度气体,氩气和氧气的质量流量比为1∶1~7∶1;上述退火处理是在100℃~400℃温度下进行。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征是:所用阴极溅射靶材是采用传统的电子陶瓷工艺方法制作的。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征是:上述退火处理是在真空、氮气、空气或氧气环境中进行。
4.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征是:上述退火处理是将沉积在衬底基片上形成ZnO薄膜以1.5℃/s的升温速率从室温升至100℃~400℃,再保温1小时,然后自然冷却至室温。
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