[发明专利]钇铁石榴石薄膜材料及制备方法无效
| 申请号： | 200710050194.6 | 申请日： | 2007-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101148753A | 公开（公告）日： | 2008-03-26 |
| 发明（设计）人： | 张怀武;杨青慧;刘颖力;文岐业;李元勋;张艳霞;贾利军 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/54;C23C14/58 |
| 代理公司： | 成都惠迪专利事务所 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 610054四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铁石 薄膜 材料 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.钇铁石榴石薄膜材料制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)清洗基片表面；
2)真空环境下在基片上溅射薄膜；
3)微波退火薄膜材料。
2.如权利要求1所述的钇铁石榴石薄膜材料制备方法，其特征在于，所述步骤3)为：将溅射沉积的薄膜放入微波处理炉中，在空气或者保护性气体下，升温至适当温度，保温一段时间，再冷却。
3.如权利要求2所述的钇铁石榴石薄膜材料制备方法，其特征在于，所述保护性气体为O2，N2或Ar。
4.如权利要求2所述的钇铁石榴石薄膜材料制备方法，其特征在于，微波退火晶化温度为500℃，保温1～5分钟。
5.采用权利要求1所述的钇铁石榴石薄膜材料制备方法制备的钇铁石榴石薄膜材料。
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