[发明专利]高透光率透明树脂的显示器保护屏及使用该屏的液晶显示器无效

专利信息
申请号: 200710048370.2 申请日: 2007-02-01
公开(公告)号: CN101236264A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 甘国工 申请(专利权)人: 甘国工
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;C23C14/08;C23C14/35;G02B1/10;G12B17/00
代理公司: 成都立信专利事务所有限公司 代理人: 江晓萍
地址: 610100四川省成都市龙泉驿区*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 透光率 透明 树脂 显示器 保护 使用 液晶显示器
【权利要求书】:

1. 高透光率透明树脂的显示器保护屏,包括透明树脂基片,其特征在于在透明树脂基片至少一面上采用真空磁控溅射方法,依次沉积TiO2和SiO2、或Nb2O5和SiO2二层增透减反射的镀膜层,或依次重叠沉积TiO2和SiO2、或Nb2O5和SiO2多层增透减反射的镀膜层,它们由基片向外依次形成TiO2/SiO2二层镀膜层、或Nb2O5/SiO2二层镀膜层、或TiO2/SiO2的多层重叠镀膜层、或Nb2O5/SiO2的多层重叠镀膜层。

2. 如权利要求1所述的高透光率透明树脂的显示器保护屏,其特征在于至少二层镀膜层中TiO2或Nb2O5的厚度是8nm至20nm,SiO2的厚度是70nm至140nm。

3. 如权利要求1所述的高透光率透明树脂的显示器保护屏,其特征在于基片两面镀膜层中至少一面镀膜层为四层,它们是镀在透明树脂基片上的由基片向外依次是第一层TiO2或Nb2O5、第二层SiO2、第三层TiO2或Nb2O5、第四层SiO2,其膜层厚度范围依次是TiO2或Nb2O5为5nm至18nm,SiO2为20nm至50nm,TiO2或Nb2O5为20nm至50nm,SiO2为70nm至140nm。

4. 如权利要求1所述的高透光率透明树脂的显示器保护屏,其特征在于基片两面镀膜层中的至少一面镀膜层为六层,它们是镀在透明树脂基片上的由基片向外依次是第一层TiO2或Nb2O5、第二层SiO2、第三层TiO2或Nb2O5、第四层SiO2,第五层TiO2或Nb2O5、第六层SiO2膜层厚度范围由玻璃基片向外依次是TiO2或Nb2O5为1.5nm至6nm,SiO2为25nm至45nm,TiO2或Nb2O5为8nm至15nm,SiO2为40nm至60nm,TiO2或Nb2O5为12nm至20nm,SiO2为80nm至140nm。

5. 如权利要求1或2或3或4所述的高透光率透明树脂的显示器保护屏,其特征在于透明树脂基片至少一面上有防静电、抗划伤、防结雾、防污功能的至少一种功能的树脂层。

6. 如权利要求5所述的高透光率透明树脂的显示器保护屏,其特征在于保护屏至少一面具有防静电功能,用表面电阻测试仪器在其表面测量其表面电阻小于1012Ω,在防静电一面的基片或树脂层与沉积的至少二层膜层的TiO2或Nb2O5之间用真空磁控溅射方法沉积一层二氧化锡或掺锡氧化铟或掺铝氧化锌的抗静电半导体膜层,镀膜层为5层,它们是防静电的半导体膜层/TiO2或Nb2O5/SiO2/TiO2或Nb2O5/SiO2,优选的厚度依次为:半导体膜为8nm至28nm,TiO2或Nb2O5为5nm至18nm,SiO2为20nm至50nm,TiO2或Nb2O5为20nm至50nm,SiO2为70nm至100nm。

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