[发明专利]渐变反射率镜的镀膜装置及镀膜方法

权利要求书

1.一种用于电子枪蒸发镀膜机的镀制渐变反射率镜的镀膜装置，包括安装架(11)，其特征在于该安装架(11)与一水平基板(15)固定相连，在该基板(15)之上通过支撑杆(18)连接一水平电机安装板(6)，该电机安装板(6)上设有第一步进电机(9)和第二步进电机(14)，所述的第一步进电机(9)和第二步进电机(14)通过第一弹性联轴器(28)和第二弹性联轴器(27)分别与挡板安装盘旋转轴(16)和基片旋转轴(17)连接，所述的基片旋转轴(17)和挡板安装盘旋转轴(16)通过轴承分别安装在所述的基板(15)上，所述的基片旋转轴(17)和挡板安装盘旋转轴(16)的下端分别与夹具支架(7)和挡板安装盘(13)连接，所述的夹具支架(7)与供待镀膜的基片放置的基片夹具(12)连接，所述的挡板安装盘(13)设置了尺寸相同的第一圆孔(20)和第二圆孔(21)，第一圆孔(20)用于安装镀制变化厚度层的挡板(26)，第二圆孔(21)不安装挡板，所述的挡板安装盘(13)的边缘上还设置了第一小圆孔(22)和第二小圆孔(23)，所述的第一小圆孔(22)与第一圆孔(20)的圆心在该挡板安装盘(13)的同一直径上，第二小圆孔(23)的圆心和第二圆孔(21)的圆心在该挡板安装盘(13)的另一直径上，该两直径相互垂直；

所述的基板(15)的下方的一侧固定一侧板(10)，所述的侧板(10)的内侧安装一光电开关支架(8)，所述的光电开关支架(8)上安装一凹槽式光电开关(19)，当所述的挡板安装盘(13)被第一步进电机(9)驱动旋转时，所述的第一小圆孔(22)或第二小圆孔(23)旋转至所述的光电开关(19)的凹槽时，所述的光电开关(19)将通过所述的第一小圆孔(22)或第二小圆孔(23)发出定位信号，使所述的挡板安装盘(13)定位不动；

所述的镀制变化厚度层的挡板(26)的通孔具有特定的形状，由所镀制的渐变反射率镜的设计决定；

所述的第二步进电机(14)和第一步进电机(9)通过真空室内的信号接口与室外的步进电机驱动器(24)连接，该步进电机驱动器(24)与控制器(25)相连，所述的光电开关(19)与控制器(25)相连接。

2.根据权利要求1所述的渐变反射率镜的镀膜装置，其特征在于所述的安装架(11)的结构与现有夹具安装架(3)相同。

3.一种利用权利要求1所述的渐变反射率镜的镀膜装置进行镀膜的方法，其特征在于包括下列步骤：

①利用计算机程序设计并制作所述的镀制变化厚度层的挡板(26)；

②将所述的挡板(26)放置在所述的挡板安装盘(13)的第一圆孔(20)中，所述的待镀膜基片置于所述的基片夹具(12)里，将所述的渐变反射率镜的镀膜装置的安装架(11)安装在所述的电子枪蒸发镀膜机的真空室的夹具安装架(3)的位置；

③启动所述的步进电机驱动器(24)和控制器(25)的电源，通过控制器(25)控制所述的步进电机驱动器(24)，驱动第一步进电机(9)，使挡板安装盘(13)的第二圆孔(21)转至所述的待镀膜基片的正下方，这时所述的光电开关(19)通过所述的第二小圆孔(23)发出定位信号，令所述的挡板安装盘(13)定位不动，关闭真空室门并开始抽真空；

④在镀膜开始后，通过控制器(25)控制所述的步进电机驱动器(24)驱动第二步进电机(14)匀速转动，带动基片夹具(12)里的待镀膜基片作匀速转动，按常规方法首先镀制所需的均匀厚度膜层；

⑤镀制中间非均匀厚度膜层：所述的控制器(25)通过步进电机驱动器(24)驱动第一步进电机(9)带动挡板安装盘(13)沿顺时针方向缓慢旋转，直至所述的挡板(26)旋转至基片夹具(12)让所述的待镀膜基片正下方，这时第一小圆孔(22)恰好通过光电开关(19)的凹槽，光电开关(19)发出信号并令挡板安装盘(13)停止转动并锁定，在通过控制器(25)驱动第二步进电机(14)匀速转动，带动基片夹具(12)让所述的待镀膜基片作匀速转动，镀制非均匀厚度膜层；

⑥镀制其余的均匀厚度膜层：所述的控制器(25)控制步进电机驱动器(24)驱动第一步进电机(9)带动挡板安装盘(13)沿逆时针方向缓慢旋转，直至第二圆孔(21)转至所述的待镀膜基片正下方，这时光电开关(19)发出信号令挡板安装盘(13)锁定，再按常规方法镀制其余的所需的均匀厚度膜层；

⑦完成基片镀膜后，按常规从真空室中取出并处理已镀膜基片。