[发明专利]精密平衡减振硅片台运动系统有效
| 申请号: | 200710045582.5 | 申请日: | 2007-09-04 |
| 公开(公告)号: | CN101165595A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
| 发明(设计)人: | 袁志扬 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/68 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅 |
| 地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 精密 平衡 硅片 运动 系统 | ||
1.一种精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于,包括:
承载基板;
基台:固定在所述承载基板上,且与所述承载基板之间具有容置空间;
硅片台运动装置:固定在所述基台的上侧,设有硅片承载台及与所述硅片承载台相连接且能根据预先规划的运行行程使所述硅片承载台产生相应方向位移的第一受控运动单元;
反向平衡运动装置:包括与承载台及其被承载物体的质量特性完全相同的模拟件,与该模拟件相连接且与第一受控运动单元相似的第二受控运动单元,以及镶嵌在基台内的动量轮运动单元,其中,所述模拟件被夹持在所述承载基板及所述基台之间;
第一控制单元,用于提供预先规划的运行行程以控制所述第一受控运动单元;以及
第二控制单元,用于向第一控制单元提供运动控制功能,并同时控制第二受控运动单元和动量轮运动单元。
2.如权利要求1所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于,还包括:在所述基台下侧表面开设多个槽体;以及分别内嵌在所述多个槽体的多个动量轮运动单元,每一动量轮运动单元设有旋转电机、支撑所述旋转电机的气浮轴承及由所述气浮轴承支撑且与所述旋转电机相连接的轮体。
3.如权利要求1所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于:所述第一受控运动单元包括:固定在所述基台上侧且平行设置的两第一导轨、分别设置在两第一导轨上的两第一滑块、连接两第一滑块且设有所述硅片承载台的第一横梁、分别设置在两第一导轨且与所述两第一滑块相连接的两第一直线电机、设置在第一横梁上且与所述硅片承载台相连接的第二直线电机、分别设置在所述两第一导轨上用于量测所述两第一滑块在相应第一导轨上的位置数据的两第一光栅尺、与所述第一控制单元相连接且将所述两第一光栅尺测出的位置数据进行编码后传输的两第一编码器、设在所述第一横梁上用于量测所述硅片承载台位置数据的第二光栅尺、以及与所述第一控制单元相连接且将所述第二光栅尺测出的位置数据进行编码后传输的第二编码器,所述硅片承载台设置有与所述基台相连接的第一气浮。
4.如权利要求3所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于:在所述两第一导轨的端侧及所述第一横梁的端侧分别设有第一防撞块。
5.如权利要求3所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于:在所述两第一导轨的边侧及所述第一横梁的边侧分别设有容置线路、气浮气管及冷却水管路的第一电缆管、及承载所述第一电缆管的第一支架。
6.如权利要求1所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于:所述第二受控运动单元包括:固定在所述基台下侧且平行设置的两第二导轨、分别设置在两第二导轨上的两第二滑块、连接两第二滑块且设有所述模拟件的第二横梁、分别设置在两第二导轨且与所述两第二滑块相连接的两第三直线电机、设置在所述第二横梁上且与所述模拟件相连接的第四直线电机、分别设置在所述两第二导轨上用于量测所述两第二滑块在相应第二导轨上的位置数据的两第三光栅尺、与所述第二控制单元相连接且将所述两第三光栅尺测出的位置数据进行编码后传输的两第三编码器、设在所述第二横梁上用于量测所述模拟台位置数据的第四光栅尺、以及与所述第二控制单元相连接且将所述第四光栅尺测出的位置数据进行编码后传输的第四编码器,所述模拟件两侧分别设置有与所述基台及所述承载基板相连接的第二气浮。
7.如权利要求6所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于:在所述两第二导轨的端侧及所述第二横梁的端侧分别设有第二防撞块。
8.如权利要求6所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于:在所述两第二导轨的边侧及所述第二横梁的边侧分别设有容置线路、气浮气管及冷却水管路的第二电缆管、及承载所述第二电缆管的第二支架。
9.如权利要求1所述的精密平衡减振硅片台运动系统,其特征在于:所述基台为大理石基台。
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