[发明专利]一种厚膜光刻胶的清洗剂

权利要求书

1.一种厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于，含有：二甲基亚砜、氢氧化钾、芳基烷基醇和/或其衍生物、醇胺类化合物和聚硅氧烷类缓蚀剂，其中，所述的芳基烷基醇和/或其衍生物为苯甲醇、苯乙醇、二苯甲醇、邻氨基苯甲醇、对氨基苯甲醇、甲基苯甲醇、二甲基苯甲醇、三甲基苯甲醇、苯基苯甲醇、2-甲基-3-苯基苯甲醇、间甲氧基苯甲醇、对甲氧基苯甲醇、苄氧基苯甲醇和二苄氧基苯甲醇中的一种或多种；所述的醇胺类化合物为一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基乙醇胺和羟乙基乙二胺中的一种或多种；所述的聚硅氧烷类缓蚀剂为甲基聚硅氧烷、二甲基聚硅氧烷、苯基甲基聚硅氧烷、氨基聚硅氧烷、羟基聚硅氧烷、聚醚改性聚硅氧烷和聚醚改性聚二甲基硅氧烷中的一种或多种；其中，所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比1～97％；所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1～5％；所述的芳基烷基醇和/或其衍生物的含量为质量百分比1～50％；所述的醇胺类化合物的含量为质量百分比1～50％；所述的聚硅氧烷类缓蚀剂的含量为质量百分比0.001～5％。

2.如权利要求1所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比30～90％。

3.如权利要求1所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1～4％。

4.如权利要求1所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的芳基烷基醇和/或其衍生物的含量为质量百分比1～30％。

5.如权利要求1所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的醇胺类化合物 的含量为质量百分比1～35％。

6.如权利要求1所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的聚硅氧烷类缓蚀剂的含量为质量百分比0.05～2.5％。

7.如权利要求1所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的厚膜光刻胶清洗剂还含有极性有机共溶剂、表面活性剂和除聚硅氧烷类缓蚀剂以外的其它缓蚀剂中的一种或多种。

8.如权利要求7所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂的含量为质量百分比0～50％；所述的表面活性剂的含量为质量百分比0～5％；所述的除聚硅氧烷类缓蚀剂以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0～5％。

9.如权利要求8所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂的含量为质量百分比0～30％；所述的表面活性剂的含量为质量百分比0.05～3％；所述的除聚硅氧烷类缓蚀剂以外的其它缓蚀剂的含量为质量百分比0.05～3％。

10.如权利要求7所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮和烷基二醇单烷基醚中的一种或多种；所述的表面活性剂为聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮和聚氧乙烯醚中的一种或多种；所述的除聚硅氧烷类缓蚀剂以外的其它缓蚀剂为胺类和唑类缓蚀剂中的一种或多种。

11.如权利要求10所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的亚砜为二乙基亚砜和/或甲乙基亚砜。

12.如权利要求10所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的砜为甲基砜、 乙基砜和环丁砜中的一种或多种。

13.如权利要求10所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮和1，3-二乙基-2-咪唑烷酮中的一种或多种。

14.如权利要求10所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇单烷基醚为乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚和二丙二醇单丁醚中的一种或多种。

15.如权利要求10所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的胺类缓蚀剂为二乙烯三胺、三乙烯四胺、五乙烯六胺、多乙烯多胺和氨基乙基哌嗪中的一种或多种。

16.如权利要求10所述的厚膜光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的唑类缓蚀剂为苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、苯并三氮唑三乙醇胺盐、3-氨基-1，2，4-三氮唑、1-苯基-5-巯基四氮唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基噻二唑、二巯基噻二唑、甲基巯基噻二唑和2-氨基-5-巯基-1，3，4-噻二唑中的一种或多种。