[发明专利]一种光刻机的监测系统及光刻机的监测方法

权利要求书

1.一种光刻机的监测系统，该监测系统包括能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统；

所述能量稳定性监测系统完成光刻机能量稳定性的监测、及关键线宽的量测；

所述焦点稳定性监测系统完成最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测；

所述能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统均包括若干晶片；

其特征在于：

所述能量稳定性监测系统与所述焦点稳定性监测系统共用一组晶片；

所述共用的一组晶片中，部分晶片完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测。

2.如权利要求1所述的监测系统，其特征在于，所述监测系统中的晶片包括共用晶片组及单用晶片组；

所述共用晶片组完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测；

所述共用晶片组中晶片的数目对应于能量稳定性监测系统、焦点稳定性监测系统中所需晶片数目较少的一个；

所述单用晶片组属于能量稳定性监测系统、焦点稳定性监测系统中所需晶片数目较多的一个。

3.如权利要求1或2所述的监测系统，其特征在于，所述能量稳定性监测系统中晶片数目与涂部机的显影槽个数相对应。

4.如权利要求3所述的监测系统，其特征在于，所述能量稳定性监测系统中晶片数目为4个。

5.如权利要求1或2所述的监测系统，其特征在于，所述焦点稳定性监测系统中晶片数目与涂部机的涂胶槽个数相对应。

6.如权利要求5所述的监测系统，其特征在于，所述焦点稳定性监测系统中晶片数目为2个。

7.如权利要求6所述的监测系统，其特征在于，所述能量稳定性监测系统中晶片数目为4个；其中2个晶片为能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统所共用，完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测。

8.配备权利要求1所述监测系统的光刻机的监测方法，其特征在于，所述监测方法包括以下过程：

所述监测系统中的晶片监测光刻机能量的稳定性，同时监测最佳焦平面的稳定性；

所述监测系统中的晶片量测关键线宽，同时量测不同焦点对应的关键线宽；

共用的一组晶片中，部分晶片完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测。

9.如权利要求8所述的监测方法，其特征在于，所述监测系统中的晶片包括共用晶片组及单用晶片组；

所述共用晶片组完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测；

所述共用晶片组中晶片的数目对应于能量稳定性监测系统、焦点稳定性监测系统中晶片数目较少的一个；

所述单用晶片组属于能量稳定性监测系统、焦点稳定性监测系统中晶片数目较多的一个。

10.如权利要求8或9所述的监测方法，其特征在于，所述能量稳定性监测系统中晶片数目与涂部机的显影槽个数相对应。

11.如权利要求10所述的监测方法，其特征在于，所述能量稳定性监测系统中晶片数目为4个。

12.如权利要求8或9所述的监测方法，其特征在于，所述焦点稳定性监测系统中晶片数目与涂部机的涂胶槽个数相对应。

13.如权利要求12所述的监测方法，其特征在于，所述焦点稳定性监测系统中晶片数目为2个。

14.如权利要求13所述的监测方法，其特征在于，所述能量稳定性监测系统中晶片数目为4个；其中2个晶片为能量稳定性监测系统及焦点稳定性监测系统所共用，完成光刻机能量稳定性的监测、关键线宽的量测、最佳焦平面的稳定性监测、及不同焦点对应关键线宽的量测。