[发明专利]一种悬臂梁结构、制作方法及应用有效
| 申请号： | 200710041875.6 | 申请日： | 2007-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN101066749A | 公开（公告）日： | 2007-11-07 |
| 发明（设计）人： | 王跃林;车录锋;熊斌;范克彬 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | B81B3/00 | 分类号： | B81B3/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 200050*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 悬臂梁 结构 制作方法 应用 | ||
【权利要求书】：
1、一种单晶硅悬臂梁结构，包括悬臂梁及支撑框，且：(1)悬臂梁的断面为五边形；(2)悬臂梁上表面为单晶硅(100)晶面；(3)悬臂梁下表面由两个(111)晶面组成；其特征在于悬臂梁下表面两个(111)晶面形成70.6度夹角；所述的下表面(111)晶面分别和悬臂梁的侧面的夹角为35.3度锐角。
2、根据权利要求1所述的单晶硅悬臂梁结构，其特征在于：
式中H为干法刻蚀悬臂梁的深度，也即形成的悬臂梁的总高度；
W为悬臂梁的宽度；
h0为最终形成的悬臂梁的厚度。
3、一种制作如权利要求1或2所述的单晶硅悬臂梁结构的方法，其工艺步骤包括：
①光刻经过氧化的双抛(100)硅片上表面，形成悬臂梁图形；
②腐蚀氧化硅，进行硅的干法刻蚀；刻蚀形成悬臂梁的两个侧面；
③在刻蚀后的硅片表面，覆盖一层氧化硅，保护悬臂梁的上表面和侧面；
④进行正反对准光刻，在硅片的另一面，悬臂梁的下方，形成硅的腐蚀窗口；
⑤进行各向异性腐蚀，直至出现悬臂梁下表面的两个腐蚀终止面，形成所需的悬臂梁。
4、按权利要求3所述的方法，其特征在于悬臂梁是由各向异性腐蚀出来的，由(111)面作为腐蚀终止面，悬臂梁的结构可精确控制。
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