[发明专利]多孔二氧化锡多层纳米薄膜及其合成方法无效
申请号: | 200710040005.7 | 申请日: | 2007-04-26 |
公开(公告)号: | CN101046459A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
发明(设计)人: | 杨平雄;秦苏梅 | 申请(专利权)人: | 华东师范大学 |
主分类号: | G01N27/12 | 分类号: | G01N27/12 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程宗德;石昭 |
地址: | 200062*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 多孔 氧化 多层 纳米 薄膜 及其 合成 方法 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华东师范大学,未经华东师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710040005.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:无线块快速处理方法及其处理系统
- 下一篇:无线电网络控制器及其信道分配方法