[发明专利]低蚀刻性光刻胶清洗剂

权利要求书

1. 一种低蚀刻性光刻胶清洗剂，其特征在于含有：苯甲醇和/或其衍生物、季铵氢氧化物和二甲基亚砜。

2. 如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的苯甲醇和/或其衍生物的含量为质量百分比0.01～98.99％。

3. 如权利要求2所述的清洗剂，其特征在于：所述的苯甲醇和/或其衍生物的含量为质量百分比5～50％。

4. 如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的苯甲醇和/或其衍生物选自苯甲醇、二苯甲醇、三苯甲醇、邻氨基苯甲醇、对氨基苯甲醇、甲基苯甲醇、二甲基苯甲醇、间甲氧基苯甲醇、对甲氧基苯甲醇、苄氧基苯甲醇和二苄氧基苯甲醇中的一种或多种。

5. 如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物的含量为质量百分比0.01～15％。

6. 如权利要求5所述的清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物的含量为质量百分比0.5～10％。

7. 如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

8. 如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比1～99.98％。

9. 如权利要求8所述的清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比60～95％。

10. 如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的清洗剂还含有极性有机共溶剂、水、表面活性剂和缓蚀剂中的一种或多种。

11. 如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂的含量为小于或等于质量百分比98.98％；水的含量为小于或等于质量百分比95％；表面活性剂的含量为小于或等于质量百分比10％；缓蚀剂的含量为小于或等于质量百分比15％。

12. 如权利要求11所述的清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂的含量为质量百分比10～50％；所述的水的含量为质量百分比0.5～25％；所述的表面活性剂的含量为质量百分比0.05～5％；所述的缓蚀剂含量为质量百分比0.05～5％。

13. 如权利要求10所述的清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮和烷基二醇单烷基醚中的一种或多种；所述的表面活性剂为聚丙烯酸、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚氧乙烯醚和聚硅氧烷中的一种或多种；所述的缓蚀剂为胺类、酚类、唑类、羧酸类、羧酸酯类、聚烷基酯类、多羟基脂类、酸酐类、膦酸类和膦酸酯类缓蚀剂中的一种或多种。

14. 如权利要求13所述的清洗剂，其特征在于：所述的亚砜为二乙基亚砜或甲乙基亚砜；所述的砜为甲基砜、乙基砜或环丁砜；所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮或1，3-二乙基-2-咪唑烷酮；所述的烷基二醇单烷基醚为乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚或二丙二醇单丁醚；所述的胺类为一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、甲基二乙醇胺、二甲基乙醇胺、羟乙基乙二胺或氨基乙基哌嗪；所述的酚类为对羟基苯酚、邻苯二酚或连苯三酚；所述的唑类为苯并三氮唑、甲基苯并三氮唑、苯并三氮唑三乙醇胺盐、1-苯基-5-巯基四氮唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、二巯基噻二唑或2-氨基-5-巯基-1，3，4-噻二唑；所述的羧酸类为苯甲酸、对氨基苯甲酸、邻苯二甲酸、海藻酸或没食子酸；所述的羧酸酯类为没食子酸丙酯；所述的聚烷基酯类为含羧基的聚己内酯或含羧基的聚丙交酯；所述的多羟基脂类为葡萄糖或琼脂；所述的酸酐类为丙酸酐、己酸酐、马来酸酐或聚马来酸酐；所述的膦酸类为1，3-(羟乙基)-2，4，6-三膦酸、氨基三亚甲基膦酸或2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸。