[发明专利]确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法

说明书

技术领域

本发明涉及晶圆曝光工艺，具体地说，涉及确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法。

背景技术

曝光机台中的透镜组系统装置是完全封闭的，使用时间过长就会产生热膨胀效应，曝光的聚焦点会随透镜组系统装置热变形发生漂移，导致光程差发生偏移，同时，对准也会发生偏移，导致晶圆上的成像发生畸变。

目前通常采用曝光机台中设定合适的透镜组系统装置受热变形修正参数提前弥补变形带来的聚焦点漂移。

然而，现有技术中，透镜组系统装置受热变形修正参数通常是根据经验算法获得的一个固定值，而且应用于各类晶圆曝光过程中。随着工艺的日益完善和工艺要求的日益精确，固定的透镜组系统装置受热变形修正参数显然不能达到准确的弥补作用，反而由于其不精确性会导致弥补的过大或过小，更加剧了聚焦点的漂移。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新的确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，其可以确定更为精确的透镜组系统装置受热变形修正参数。

为实现上述目的，本发明提供一种确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，该方法适用于曝光多个晶圆，其中，该方法包括如下步骤：a.在预先确定的区间内选择不同的透镜组系统装置受热变形修正参数；b.根据选定不同的透镜组系统装置受热变形修正参数获取对应的掩模板放大参数；c.选择随着曝光晶圆个数增加，掩模板放大参数变化最小的透镜组系统装置受热变形修正参数值为较佳透镜组系统装置受热变形修正参数。

与现有技术相比，本发明根据透镜组系统装置受热变形修正参数对应的掩模板放大参数变化程度来确定最精确的透镜组系统装置受热变形修正参数，这种方法利用了掩模板放大参数表征透镜组系统装置变形程度的特点，在有效的透镜组系统装置受热变形修正参数范围内选择透镜组系统装置变形最小的透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，可以更为精确地获得较佳的透镜组系统装置受热变形修正参数。此外，不同类别的晶圆在不同的制程中都可以获取相应的透镜组系统装置受热变形修正参数。

附图说明

通过以下对本发明一实施例结合其附图的描述，可以进一步理解其发明的目的、具体结构特征和优点。其中，附图为：

图1为本发明确定透镜组系统装置受热变形修正参数的曲线图。

具体实施方式

本发明的确定透镜组系统装置受热变形修正参数(CF)的方法适用于针对任一选定制程中的各种类别晶圆。当选定的制程需要确定CF值时，首先调整曝光机台上的晶圆校准选用参数，该参数用于一批晶圆中每一片晶圆进行对准。在本发明实施例中，一批晶圆为25片晶圆。

本发明的方法具体包括如下步骤，首先设定不同的CF，运行曝光机台根据设定不同的CF获取对应的掩模板放大参数(Reticle Magnification，R-Mag)。掩模板放大参数R-Mag可以表征透镜组系统装置的变形程度。

然后根据获得的CF和R-Mag值绘制如图1所示的曲线图，该图的横坐标是表示晶圆编号。该曲线图可以表征当CF取值不同时，随着晶圆曝光个数增加，透镜组系统装置的变形程度。从曲线图选择透镜组系统装置变形程度最小的CF值即为多个CF值中最精确的。

在本发明较佳实施例中，首先设定的不同的CF值是根据经验得知，例如设定CF的范围为0.6至1.6，间隔为0.2，即取值为0.6，0.8，1.0，1.4，1.6。然后在根据这些CF取值获取曝光每一片晶圆时对应的R-Mag，即可以得到如下取值关系，如表1所示：

表1