[发明专利]一种陶瓷开光釉制作方法及其釉料

权利要求书

1、一种陶瓷开光釉制作方法，其特征在于：采用在陶瓷坯体上先上一次底釉，再上一次面釉的二次上釉方法；再将上好二次釉的陶瓷坯体送入窑炉烧制，通过底釉和面釉张力差异的作用，面釉裂开显现出光泽的底釉与无光的面釉相映衬形成开光效果；且所述的釉料分为底釉和面釉，底釉和面釉由釉基釉和色剂两部分组成，其组成的重量百分比组成为：基釉80—100％、色剂0—20％，色剂为陶瓷用商品颜料或工业用氧化物；所述的底釉的基釉包括SiO₂、Al₂O₃、CaO、ZnO、Li₂O、MgO、K₂O和Na₂O，由长石、石英、方解石、滑石和锂瓷石任意组合制成，底釉的基釉化学组成含量如下：

SiO₂：50～67％           Al₂O₃：9～14％         CaO：3.2～6.3％

ZnO：2～4％              Li₂O：0～0.5％        MgO：0.5～1.0％

K₂O：4.1～6.2％          Na₂O：2.1～4.5％       其余为杂质。

所述的面釉的基釉包括SiO₂、Al₂O₃、CaO、ZnO、Li₂O、MgO、K₂O和Na₂O，由长石、石英、方解石、滑石和锂瓷石任意组合制成，面釉的基釉化学组成含量如下：

SiO₂：48～60％         Al₂O₃：12～20％        CaO：3.2～4.2％

ZnO：0～1％            Li₂O：0～0.5％        MgO：6.2～7.8％

K₂O：3.8～6.0％        Na₂O：1.8～4.3％      其余为杂质。

2、如权利要求1所述的开光釉制作方法，其特征在于：所述的底釉和面釉的施涂方法是喷涂或刷涂，或是浸釉，施釉时应同时保证底釉的厚度在0.2～0.3毫米，面釉的厚度在0.3～0.4毫米。

3、如权利要求1所述的开光釉制作方法，其特征在于：所述的底釉和面釉的制作方法是，按配方称取各种原料，将原料球磨，按原料：球石：水＝1：1.5～2：0.6球磨24小时，同时控制底釉细度为：325目筛筛余0.1～0.15％，面釉细度为：325目筛筛余0.05～0.1％，加水稀释过160目筛，即可上釉。