[发明专利]高分辨率微光学器件并行直写制作方法及制作系统无效
| 申请号： | 200710034660.1 | 申请日： | 2007-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN101021692A | 公开（公告）日： | 2007-08-22 |
| 发明（设计）人： | 颜树华;周春雷;张军;沈少伟;童慧鹏;李锷 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/00;G02B13/00;G06F3/00;G03F7/26 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 陈晖 |
| 地址： | 410073湖南省长沙市砚瓦池正*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高分辨率 微光 器件 并行 制作方法 制作 系统 | ||
【说明书】：
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