[发明专利]热丝与热蒸发气相沉积薄膜设备无效
申请号: | 200710030643.0 | 申请日: | 2007-09-30 |
公开(公告)号: | CN101397654A | 公开(公告)日: | 2009-04-01 |
发明(设计)人: | 邵庆益 | 申请(专利权)人: | 漳州师范学院 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/27;C23C16/448;C23C16/52 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 363000福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸发 沉积 薄膜 设备 | ||
1.一种用于材料制备的化学气相沉积设备,为了将热丝化学气相沉积工艺和热 蒸发沉积工艺合并为一个整体,使得在低压环境下相关的材料制备工艺连续化 和简单化,而不需要将样品在工艺的途中经过大气环境从一个真空室转移到另 一个真空室,也使得热丝化学气相沉积和热蒸发沉积两种工艺同时工作,组合 成制备工艺,技术方案是在热丝化学气相沉积现有设备的热丝和进气口平板之 间位置增加一个热蒸发装置;
设备由供气系统、抽气系统、冷却系统、真空反应室、衬底支架、热丝源 气体激活装置、热蒸发装置和电控系统组成;
其特征在于:在上述设备中,所述的热蒸发装置与热丝源气体激活装置组 成复合装置;热蒸发装置包含热蒸发丝、热蒸发丝支架和对热蒸发丝供电的热 蒸发丝电源;热丝源气体激活装置由热丝激活部分组成,热丝激活部分包含热 丝、热丝支架和对热丝供电的热丝电源,和热丝相对基底的偏压电源,热丝电 源能使热丝激活源气体;
热蒸发丝电源能使热蒸发丝单独进行蒸发工作,也能与热丝等离子体装置 同时工作,设备衬底支架相对热丝、或热蒸发丝运动,或相对热丝和热蒸发丝 的组合运动;
热蒸发丝均匀安装于热蒸发丝支架上,位于进气口平板与热丝之间,热蒸 发丝到热丝的距离可调节,热蒸发丝用钨丝、钽丝或铼丝高熔点金属丝制成, 丝上放置或悬挂金属舟,舟内放置需要蒸发的材料;或用需要蒸发、含有需要 蒸发材料的低熔点金属丝制作;
进气口平板位于热蒸发丝上方,内有冷却液孔洞连接于冷却液管道上,进 气口平板到衬底支架距离可调节;热丝均匀安装于热丝支架上,位于衬底支架 与热蒸发丝之间,热丝到衬底支架表面距离可调节,热丝用钨丝、钽丝或铼丝 高熔点金属丝制成;衬底支架位于热丝的下方,衬底支架内有冷却液孔洞,连 接到冷却液管道,附有热电偶或其它测温仪表。
2.按照权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于:所述衬底支架相对 运动,是热丝和热蒸发丝固定不动,衬底支架匀速转动。
3.按照权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于:所述衬底支架相对 运动,是热蒸发丝和衬底支架固定不动,热丝支架匀速转动。
4.按照权利要求1所述的化学气相沉积设备,其特征在于:所述衬底支架相对 运动,是热丝和热蒸发丝固定不动,一系列的衬底支架携带衬底连续地分别移 动进入真空反应室内,再匀速转动,当衬底上样品表面沉积材料后,衬底支架 携带衬底从真空反应室内移出。
5.按照权利要求2所述的化学气相沉积设备,其特征在于:所述热丝固定不动, 是指热丝不能整体平动,但转动一定角度;热丝支架只有一根支柱,热丝的两 电极沿着这根支柱相互绝缘引出;热丝支架绕这根支柱转动一定角度,从位于 衬底支架上方到远离衬底支架上方的相互转动。
6.按照权利要求4所述的化学气相沉积设备,其特征在于:所述热丝固定不动, 是指热丝不能整体平动,但转动一定角度;热丝支架只有一根支柱,热丝的两 电极沿着这根支柱相互绝缘引出;热丝支架绕这根支柱转动一定角度,从位于 衬底支架上方到远离衬底支架上方的相互转动。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的