[发明专利]平板显示器玻璃蚀刻液有效

专利信息
申请号: 200710027930.6 申请日: 2007-05-09
公开(公告)号: CN101054265A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 钟平洪;蔡汉业;郑资来;潘俊锋 申请(专利权)人: 信利半导体有限公司
主分类号: C03C15/02 分类号: C03C15/02;C03C15/00
代理公司: 广州知友专利商标代理有限公司 代理人: 宣国华
地址: 516600广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 平板 显示器 玻璃 蚀刻
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种玻璃蚀刻液,尤其是涉及一种应用于平板显示器FPD中的显示屏(包括TN、STN、CSTN、TFT、TP、OLED等)玻璃基板薄化的玻璃蚀刻液。

背景技术

液晶显示屏目前通常的减薄方法有两种,一为物理抛光研磨,一为化学蚀刻,其中化学薄化玻璃有以下几个特点:

1.薄化时间短;

2.薄化产量较高;

3.成分简单,配制比较容易。

目前,有进行FPD玻璃减薄的厂家,大部分是以氢氟酸为主要原料,且有些仅使用单一氢氟酸溶液,这种做法存在以下缺点:1,直接接触氢氟酸,毒性高,且该药液易产生氢氟酸气体,生产过程中特别是配制时危险性高,如果辅以加热,则危险性更高;2,蚀刻过程产生白色难溶物,容易悬浮在蚀刻液中及粘附于管道槽壁,难于处理。而且该难溶物吸附性较强,容易粘附在FPD玻璃表面,对FPD玻璃外观良品率以及后处理造成了很大的影响;3,生产过程中速率不稳定且利用率较低;4.由于利用率低,废液处理困难,与之相配套的废液处理成本较高。

随着薄化FPD市场发展越来越大,FPD玻璃的减薄将有越来越多的企业加入,氢氟酸用量的增加将加大对环境的伤害,这一技术应尽早淘汰,使用安全有效的新技术将成为FPD玻璃薄化的趋势。

发明内容

本发明的目的在于能为FPD玻璃蚀刻提供安全、稳定、高效的生产环境,同时较好的处理蚀刻难溶物问题以及提高良品率的玻璃蚀刻液。

本发明的目的可以通过以下技术措施来实现:一种玻璃蚀刻液,包含以下按重量份数计的组成成分:

氟化氢铵9~15份 强酸50~59份 纯水22~26份。

本发明所述的强酸为45%~60%硫酸。

本发明所述的强酸为硫酸和盐酸,其中45%~60%硫酸36~41份,36%~37%盐酸14~18份。

本发明所述的强酸为硫酸和硝酸,其中45%~60%硫酸44~52份,30%~35%硝酸6~7份。

本发明所述的强酸为硫酸、盐酸和硝酸,其中45%~60%硫酸33~37份,36%~37%盐酸12~15份,30%~35%硝酸5~7份。

本发明与现有技术相比,具有以下的优点和效果:

1)毒性小、无污染:本发明的溶液配方原料相对与HF酸溶液,毒性低很多,氟化氢铵为固体、硫酸及硝酸溶液浓度较小、盐酸毒性低,都是危险性低、易处理,配制成溶液后,无挥发问题,药液安全性较好;人员不小心接触后经过水冲洗和涂搽葡萄糖酸钙等简单处理后即可;

2)蚀刻速率快、利用率高:本发明的溶液配方相对HF酸溶液,蚀刻速度提高了1~2微米/分钟,最高可达到6.5微米/分钟;药液利用率提高了60~80%;从利用率计算,废酸处理的量亦下降了50%左右,不但提高了效率,成本也大大地降低;

3)改善了蚀刻难溶物问题以及提高了良品率:本发明的配方和FPD玻璃反应生成了不同于氢氟酸和FPD玻璃反应生成的物质,该难溶物量少并不带有吸附性,易沉淀,蚀刻液始终为澄清状态,优于氢氟酸蚀刻液使用后的浑浊状态;沉淀为糊状物,不具吸附性也不易结块,极易冲洗;

综上所述,本发明的蚀刻液是比氢氟酸蚀刻液更为先进的一种玻璃薄化配方,无论从安全性、环境污染、稳定性、速率、良率来看各方面都优于氢氟酸蚀刻液的先进配方,是未来FPD玻璃薄化的新型工艺用料。

具体实施方式

实例1

将按重量份称取的氟化氢铵10份、55%硫酸55份、纯水24份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。

实例2

将按重量份称取的氟化氢铵14份、60%硫酸38份、37%盐酸15份、纯水23份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。

实例3

将按重量份称取的氟化氢铵10份、55%硫酸48份、30%硝酸6份、纯水23份倒入容器中,室温搅拌均匀后即得蚀刻液。

实例4

将按重量份称取的氟化氢铵12份、50%硫酸39份、37%盐酸17份、纯水25份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。

实例5

将按重量份称取的氟化氢铵15份、45%硫酸35份,36%盐酸13份,32%硝酸5份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。

本发明玻璃蚀刻液将厚度为1.000mm的TFT(薄膜晶体管)玻璃减薄为0.800mm的过程如下:

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