[发明专利]平板显示器玻璃蚀刻液有效
申请号: | 200710027930.6 | 申请日: | 2007-05-09 |
公开(公告)号: | CN101054265A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 钟平洪;蔡汉业;郑资来;潘俊锋 | 申请(专利权)人: | 信利半导体有限公司 |
主分类号: | C03C15/02 | 分类号: | C03C15/02;C03C15/00 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司 | 代理人: | 宣国华 |
地址: | 516600广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平板 显示器 玻璃 蚀刻 | ||
技术领域
本发明涉及一种玻璃蚀刻液,尤其是涉及一种应用于平板显示器FPD中的显示屏(包括TN、STN、CSTN、TFT、TP、OLED等)玻璃基板薄化的玻璃蚀刻液。
背景技术
液晶显示屏目前通常的减薄方法有两种,一为物理抛光研磨,一为化学蚀刻,其中化学薄化玻璃有以下几个特点:
1.薄化时间短;
2.薄化产量较高;
3.成分简单,配制比较容易。
目前,有进行FPD玻璃减薄的厂家,大部分是以氢氟酸为主要原料,且有些仅使用单一氢氟酸溶液,这种做法存在以下缺点:1,直接接触氢氟酸,毒性高,且该药液易产生氢氟酸气体,生产过程中特别是配制时危险性高,如果辅以加热,则危险性更高;2,蚀刻过程产生白色难溶物,容易悬浮在蚀刻液中及粘附于管道槽壁,难于处理。而且该难溶物吸附性较强,容易粘附在FPD玻璃表面,对FPD玻璃外观良品率以及后处理造成了很大的影响;3,生产过程中速率不稳定且利用率较低;4.由于利用率低,废液处理困难,与之相配套的废液处理成本较高。
随着薄化FPD市场发展越来越大,FPD玻璃的减薄将有越来越多的企业加入,氢氟酸用量的增加将加大对环境的伤害,这一技术应尽早淘汰,使用安全有效的新技术将成为FPD玻璃薄化的趋势。
发明内容
本发明的目的在于能为FPD玻璃蚀刻提供安全、稳定、高效的生产环境,同时较好的处理蚀刻难溶物问题以及提高良品率的玻璃蚀刻液。
本发明的目的可以通过以下技术措施来实现:一种玻璃蚀刻液,包含以下按重量份数计的组成成分:
氟化氢铵9~15份 强酸50~59份 纯水22~26份。
本发明所述的强酸为45%~60%硫酸。
本发明所述的强酸为硫酸和盐酸,其中45%~60%硫酸36~41份,36%~37%盐酸14~18份。
本发明所述的强酸为硫酸和硝酸,其中45%~60%硫酸44~52份,30%~35%硝酸6~7份。
本发明所述的强酸为硫酸、盐酸和硝酸,其中45%~60%硫酸33~37份,36%~37%盐酸12~15份,30%~35%硝酸5~7份。
本发明与现有技术相比,具有以下的优点和效果:
1)毒性小、无污染:本发明的溶液配方原料相对与HF酸溶液,毒性低很多,氟化氢铵为固体、硫酸及硝酸溶液浓度较小、盐酸毒性低,都是危险性低、易处理,配制成溶液后,无挥发问题,药液安全性较好;人员不小心接触后经过水冲洗和涂搽葡萄糖酸钙等简单处理后即可;
2)蚀刻速率快、利用率高:本发明的溶液配方相对HF酸溶液,蚀刻速度提高了1~2微米/分钟,最高可达到6.5微米/分钟;药液利用率提高了60~80%;从利用率计算,废酸处理的量亦下降了50%左右,不但提高了效率,成本也大大地降低;
3)改善了蚀刻难溶物问题以及提高了良品率:本发明的配方和FPD玻璃反应生成了不同于氢氟酸和FPD玻璃反应生成的物质,该难溶物量少并不带有吸附性,易沉淀,蚀刻液始终为澄清状态,优于氢氟酸蚀刻液使用后的浑浊状态;沉淀为糊状物,不具吸附性也不易结块,极易冲洗;
综上所述,本发明的蚀刻液是比氢氟酸蚀刻液更为先进的一种玻璃薄化配方,无论从安全性、环境污染、稳定性、速率、良率来看各方面都优于氢氟酸蚀刻液的先进配方,是未来FPD玻璃薄化的新型工艺用料。
具体实施方式
实例1
将按重量份称取的氟化氢铵10份、55%硫酸55份、纯水24份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。
实例2
将按重量份称取的氟化氢铵14份、60%硫酸38份、37%盐酸15份、纯水23份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。
实例3
将按重量份称取的氟化氢铵10份、55%硫酸48份、30%硝酸6份、纯水23份倒入容器中,室温搅拌均匀后即得蚀刻液。
实例4
将按重量份称取的氟化氢铵12份、50%硫酸39份、37%盐酸17份、纯水25份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。
实例5
将按重量份称取的氟化氢铵15份、45%硫酸35份,36%盐酸13份,32%硝酸5份倒入容器中,搅拌均匀后即得蚀刻液。
本发明玻璃蚀刻液将厚度为1.000mm的TFT(薄膜晶体管)玻璃减薄为0.800mm的过程如下:
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