[发明专利]铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液

权利要求书

1.一种铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：包括磨料、表面活性剂、络合剂、PH调节剂以及去离子水；各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％至40％，表面活性剂为5％至20％，络合剂为0.01％至0.6％，PH调节剂为1％至6％，去离子水为余量。

2.根据权利要求1所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述磨料是粒径为15至200nm的水溶性二氧化硅溶胶。

3.根据权利要求2所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述磨料I的粒径优选20至80nm。

4.根据权利要求1所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为非离子型表面活性剂。

5.根据权利要求4所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述非离子型表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所述脂肪醇聚氧乙烯醚是聚合度为20的脂肪醇聚氧乙烯醚(0-20)、聚合度为25的脂肪醇聚氧乙烯醚(0-25)或者聚合度为40的脂肪醇聚氧乙烯醚(0-40)；所述烷基醇酰胺是月桂酰单乙醇胺。

6.根据权利要求1所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述PH值调节剂为有机碱、无机碱或它们的组合。

7.根据权利要求6所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述无机碱为氢氧化钾或氢氧化钠；所述有机碱为多羟多胺和胺中的一种或它们的组合。

8.根据权利要求7所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液，其特征在于：所述多羟多胺为三乙醇胺、四羟基乙二胺或六羟基丙基丙二胺；所述胺为乙二胺或四甲基氢氧化铵。

9.权利要求1所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，其特征在于，先将所需重量的磨料均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将表面活性剂液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液。

10.根据权利要求9所述的铜抛光中用的纳米二氧化硅磨料抛光液的制备方法，其特征在于：所述千级净化室的环境温度为常温；真空压力为-10⁵至0Mpa。