[发明专利]一种镁合金用抛光液无效
申请号: | 200710025304.3 | 申请日: | 2007-07-23 |
公开(公告)号: | CN101353796A | 公开(公告)日: | 2009-01-28 |
发明(设计)人: | 仲跻和 | 申请(专利权)人: | 江苏海迅实业集团股份有限公司 |
主分类号: | C23F3/03 | 分类号: | C23F3/03 |
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地址: | 226600江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镁合金 抛光 | ||
技术领域
本发明涉及抛光液,尤其涉及一种镁合金用抛光液。
背景技术
属镁是人类可以制得并在空气中长期存在的有实用价值的最轻的金属。近年来,节能、环保概念在世界范围内趋热,镁由于其重量轻等优异性能,在汽车、航天、航空、铸造、化工电子、通讯、仪器、机械制造、交通、蓄能材料、建筑装饰、球墨铸铁、脱硫剂、格氏试剂、焰火、军事照明弹及镁阴极保护防蚀材料镁合金等产业中应用也迅猛发展。铝镁合主要特点:用其压铸的零部件轻薄,具有表面光亮,质量轻,强度重量比高,尺寸稳定性,吸震性好,散热快,抗静电等特点。主要用途:广泛应用于高档家用电器,如壁挂式电视机外壳、笔记本电脑外壳、通讯电子设备外壳、汽车零、部件等此类外包围制造上。用此材料加工制造的产品可100%的回收再利用,符合环保概念。而影响镁合金外包围迅速发展的原因是,在对其加工过程中常出现平整度差及划伤多等问题,而这些因素直接反应到抛光工艺和抛光材料的选取上。目前,镁合金用抛光液存在的问题,一是品种单一,二是抛光后表面质量差,划伤多,抛光化学腐蚀过度,不能满足镁合金外包围发展的需求。
发明内容
本发明的主要目的在于克服现有产品存在的上述缺点,而提供镁合金用抛光液,其可用于镁合金抛光加工中,有效减少镁合金抛光后的表面划伤,提高镁合金抛光后的表面平整度,能够满足笔记本电脑外壳、通讯电子设备外壳、精密零件等外包围加工的需要,而且抛光速率快,抛光液不腐蚀设备,安全性能高。
本发明的目的是由以下技术方案实现的。
本发明一种镁合金用抛光液,其特征在于:包括磨料、强氧化剂、PH调节剂以及去离子水;各种组分所占的重量百分比为:磨料I为10%至40%,强氧化剂为0.1%至3%,PH调节剂为1%至10%,去离子水为余量。
前述的一种镁合金用抛光液,其特征在于:所述磨料是粒径为200至800nm的金刚砂。
前述的一种镁合金用抛光液,其特征在于:所述强氧化剂是三氧化铬、过氧焦磷酸钠。
前述的一种镁合金用抛光液,其特征在于:所述PH值调节剂为无机酸、有机酸中的一种或它们的组合。
前述的一种镁合金用抛光液,其特征在于:所述无机酸为硝酸、硫酸;所述有机酸为脂肪族有机酸、芳香族有机酸中的一种或它们的组合。
前述的一种镁合金用抛光液,其特征在于:所述为脂肪族有机酸为酒石酸、草酸、苹果酸、枸椽酸、抗坏血酸;所述芳香族有机酸为苯甲酸、水杨酸、咖啡酸。
前述的一种镁合金用抛光液的制备方法,其特征在于,先将所需重量的磨料混合于去离子水中,混合均匀后加入抛光液的其余组分,再继续充分搅拌,混合均匀即制备出成品抛光液。
本发明用于镁合金用抛光液的有益效果,该抛光液使用粒径适中的金刚砂作为磨料,既在抛光过程中增加了了机械加工作用,减少抛光中化学腐蚀过度造成蚀坑,使抛光后的铝合金表面的粗糙度和波纹度降低,还可以大大提高抛光速率;另外,本发明中特别提出了强氧化剂配合有机酸的使用方法可以有效降低酸对镁合金表面的化学腐蚀,高速率的产生是由强氧化剂和磨料的共同作用完成,而抛光后的磨屑溶解与抛光液中的无机酸和有机酸中。
具体实施方式
本发明一种镁合金用抛光液,其包括磨料、强氧化剂、PH调节剂以及去离子水;各种组分所占的重量百分比为:磨料I为10%至40%,强氧化剂为0.1%至3%,PH调节剂为1%至10%,去离子水为余量。
本发明一种镁合金用抛光液,其磨料是粒径为200至800nm的金刚砂。;强氧化剂是三氧化铬、过氧焦磷酸钠;PH值调节剂为无机酸、有机酸或它们的组合;无机酸为硝酸、硫酸;所述有机酸为脂肪族有机酸、芳香族有机酸,脂肪族有机酸为酒石酸、、苹果酸、枸椽酸、抗坏血酸;芳香族有机酸为苯甲酸、水杨酸、咖啡酸。
本发明一种镁合金用抛光液的制备方法,先将所需重量的磨料混合于去离子水中,混合均匀后加入抛光液的其余组分,再继续充分搅拌,混合均匀即制备出成品抛光液。
本发明一种镁合金用抛光液,使用粒径适中的金刚砂作为磨料,既在抛光过程中增加了了机械加工作用,减少抛光中化学腐蚀过度造成蚀坑,使抛光后的铝合金表面的粗糙度和波纹度降低,还可以大大提高抛光速率。本发明中特别提出了强氧化剂配合有机酸的使用方法可以有效降低酸对镁合金表面的化学腐蚀,增加氧化还原反应,氧化后的产物由磨料去除,高速率的产生就是由强氧化剂和磨料的共同作用完成,而抛光后的磨屑溶解与抛光液中的无机酸和有机酸中,配方更合理、有效。
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